Discontinued (Descatalogado) ST0131 Cátodos para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio (ATO)

Descripción del cátodo para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio (ATO)

El cátodo para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio (ATO) es un material de última generación diseñado para procesos de deposición de películas finas de alto rendimiento. Fabricado con una composición única de Sb2O3-SnO2 y una pureza de al menos el 99%, este cátodo está diseñado para proporcionar una fiabilidad y uniformidad excepcionales durante el sputtering. Sus excelentes propiedades de material garantizan una deposición estable en aplicaciones de alta demanda, asegurando un control preciso de la película y consistencia en una amplia gama de sustratos.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio (ATO)

- Deposición de películas finas: Ideal para depositar capas uniformes en pantallas, paneles solares y otros dispositivos electrónicos.
- Fabricación de componentes electrónicos: Utilizado en la fabricación de revestimientos conductores y electrodos transparentes.
- Recubrimientos de superficies: Aplicados en procesos avanzados de revestimiento para mejorar las propiedades térmicas y ópticas.
- Investigación y desarrollo: Permite configuraciones experimentales en ciencia de materiales y nanofabricación.

Embalaje de cátodos para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio (ATO)

Nuestros cátodos para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio se embalan cuidadosamente para mantener su integridad y rendimiento. Cada cátodo se sella al vacío y se manipula de acuerdo con estrictos procesos de control de calidad, garantizando un estado óptimo en el momento de la entrega. Las opciones de embalaje se pueden personalizar para satisfacer requisitos logísticos y de almacenamiento específicos.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuál es el uso principal del cátodo para sputtering ATO?
R: El cátodo para sputtering ATO se utiliza principalmente para depositar películas finas en electrónica, como capas conductoras transparentes para pantallas y células solares.

P: ¿Cómo se fabrica el cátodo para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio?
R: Se fabrica utilizando técnicas de procesamiento de polvo de precisión y métodos de sinterización para conseguir un material homogéneo de gran pureza ideal para aplicaciones de sputtering.

P: ¿Cuáles son las principales propiedades del cátodo para sputtering de ATO?
R: Las propiedades clave incluyen una alta pureza (≥99%), una densidad controlada (6,8 g/cm³) y una composición optimizada para la deposición uniforme de películas finas.

P: ¿Se puede personalizar la forma del cátodo para sputtering?
R: Sí, los cátodos están disponibles en discos estándar o pueden personalizarse para satisfacer requisitos de diseño específicos.

P: ¿Qué industrias se benefician más del uso de cátodos para sputtering ATO?
R: Industrias como la fabricación de productos electrónicos, la fotónica y la investigación de materiales avanzados se benefician de su excelente rendimiento en los procesos de deposición de películas finas.