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ST1051 Cátodos para sputtering de tántalo (Cátodos para sputtering Ta)

Catálogo No. ST0048
Material Ta ≥ 99 %, o según especificaciones del cliente
Forma De disco, plano o a medida
Pureza ≥99 %
Sinónimos Blanco de pulverización de tantalio, blanco de Ta
MSDS / SDS

Stanford Advanced Materials (SAM) ofrece cátodos para sputtering de tántalo de alta calidad, fabricados con los mejores discos de tántalo. Estos cátodos se fabrican con precisión para un rendimiento superior en una amplia gama de aplicaciones, garantizando fiabilidad y resultados consistentes.

Otros productos de tántalo: lámina de tántalo / banda de tántalo, chapa de tántalo / placa de tántalo, tubo de tántalo / tubería de tántalo, alambre de tántalo, etc.

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Tantalum Sputtering Target
Tantalum Sputtering Target
Descripción
Especificación
SDS
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Material
Ta ≥ 99 %, o según especificaciones del cliente
Forma
De disco, plano o a medida
Pureza
≥99 %
Sinónimos
Blanco de pulverización de tantalio, blanco de Ta
 
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Dimensiones
Diámetro 70-195 mm Longitud <=1600 mm
Material
R05200 R05400
Número CAS
7440-25-7
Estándar
ASTM B364-92
Pureza
>=99,9% o 99,95%.
 
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Material
R05200 R05400
Estándar
ASTM B708-98
Pureza
≥99,9% o 99,95%.
Sinónimos
Lámina de tantalio, cinta Ta
 
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Dimensiones
Personalizado
Pureza
≥99,9 %, o a medida
Estándar
ASTM B708, ISO 13782, EN 59972, DIN 17848
Grado
UNS R05200, UNS R05400
Formulario
Lámina/Placa
Sinónimos
Lámina de tantalio, placa de Ta
Espesor
0,13 – 4,76 mm (lámina); ≥4,7 mm (placa)
Densidad
16,6 g/cm³

FAQ

¿Se pueden unir los blancos de pulverización de tántalo a una placa de soporte?

Sí, los blancos de pulverización de tántalo pueden fijarse a placas de soporte de cobre mediante métodos de unión con indio o elastómeros.

¿Existen requisitos especiales de almacenamiento o manipulación para los blancos de pulverización de tantalio?

Los blancos de pulverización de tantalio deben almacenarse en un entorno limpio y seco para evitar la contaminación de la superficie.

¿Cuál es el método de pulverización catódica recomendado para los blancos de tantalio?

La pulverización catódica con magnetrón de corriente continua es el método más utilizado para depositar películas de tantalio.

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País*

España

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
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    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Otros
    • Other
    Thickness

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
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    Sí

    • Sí
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