Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO) Descripción
Elóxido de indio y estaño (ITO) es una solución sólida de óxido de indio (In2O3) y óxido de estaño (SnO2), normalmente 90% In2O3, 10% SnO2 en peso. El óxido de indio y estaño (ITO) es uno de los óxidos conductores transparentes más utilizados por su conductividad eléctrica y transparencia óptica. Las películas finas de óxido de indio y estaño suelen depositarse sobre superficies mediante deposición física en fase vapor (PVD).
El óxido de indio y estaño se utiliza a menudo para fabricar revestimientos conductores transparentes para pantallas de cristal líquido, pantallas planas, pantallas de plasma, paneles táctiles y aplicaciones de tinta electrónica. Las películas finas de ITO se utilizan en diodos orgánicos emisores de luz, células solares, revestimientos antiestáticos y blindajes EMI.
Además, el ITO también se utiliza para diversos revestimientos ópticos, sobre todo revestimientos reflectantes de infrarrojos (espejos calientes) para automóviles y vidrios de lámparas de vapor de sodio.
Las galgas extensométricas de película fina de ITO pueden funcionar a temperaturas de hasta 1400 °C y utilizarse en entornos agresivos, como turbinas de gas, motores a reacción y motores de cohetes.
Como conductor transparente para pantallas LCD, la principal ventaja del ITO frente a otros materiales (AZO, por ejemplo) es que puede grabarse con precisión en patrones finos.
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Acerca de Stanford Advanced Materials (SAM)
Stanford Advanced Materials (SAM) Corporation es un proveedor mundial de una serie de metales puros, aleaciones, cerámicas y minerales como óxidos, cloruros, sulfuros, oxisales, etc. Nuestra sede, situada en Irvine, California, EE.UU., se estableció por primera vez en 1994, comenzando a suministrar productos de tierras raras de alta calidad para investigación y desarrollo (I+D).