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ITO0491 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)

Catálogo No. ITO0491
Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
Pureza >=99.99%
Número CAS 50926-11-9
Densidad 7,1 g/cm3
Punto de fusión 1565℃

Depositado por magnetrón u otras técnicas de pulverización catódica, el cátodo de óxido de indio y estaño (ITO ) se utiliza para sustratos recubiertos de ITO, incluyendo electrodos para pantallas planas, contactos de paneles táctiles, cristales de ahorro energético para automóviles y edificios, dispositivos optoelectrónicos, paneles solares, etc. Stanford Advanced Materials suministra cátodos ITO de alta calidad con diferentes dimensiones a nuestros clientes.

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