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  • ST0334 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)

    • ST0334 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)

    Catálogo No. ST0334
    Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza >=99.99%
    Densidad 7,1 g/cm3

    Depositado por magnetrón u otras técnicas de pulverización catódica, el cátodo de óxido de indio y estaño (ITO ) se utiliza para sustratos recubiertos de ITO, incluyendo electrodos para pantallas planas, contactos de paneles táctiles, cristales de ahorro energético para automóviles y edificios, dispositivos optoelectrónicos, paneles solares, etc. Stanford Advanced Materials suministra cátodos ITO de alta calidad con diferentes dimensiones a nuestros clientes.

    CONSULTA
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    Indium Tin Oxide (In2O3/SnO2) Sputtering Target
    Indium Tin Oxide (In2O3/SnO2) Sputtering Target
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    ST0334 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)
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    Material
    90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza
    >=99.99%
    Densidad
    7,1 g/cm3
     
    VD0691 Gránulos de óxido de indio y hierro (InFe₂O₄) — Materiales para evaporación
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    Material
    Óxido de indio y hierro (InFe2O4)
    Pureza
    99.9%%
    Forma
    Polvo/ Granulado/ A medida
     
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    Material
    Óxido de indio (In2O3)
    Pureza
    99.9% ~ 99.99%
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    Polvo/ Granulado/ A medida
     
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    Material
    Óxido de indio y estaño (ITO)
    Pureza
    99.9% ~ 99.99%
    Forma
    Polvo/ Granulado/ A medida

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      2''

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      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Otros
      • Other
      Thickness

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
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