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ST0038 Blanco para sputtering de rodio (Rh)

Catálogo No. ST0038
Composición Rh
Número CAS 7440-16-6
Pureza ≥99%
Forma Discos, o a medida
Diámetro 2", 3", 4", 5", 6" o personalizado
Espesor 0,25", 0,125" o personalizado
Tipo de bono Cobre, o personalizado
Sinónimos Cátodos para sputtering de rodio, cátodos Rh

El cátodo de rodio (Rh) para sputtering está bien considerado por su excelente rendimiento en sputtering y su resistencia superior a la corrosión. Stanford Advanced Materials se compromete a ofrecer materiales innovadores y de alta calidad mediante una fabricación de vanguardia y un riguroso control de calidad.

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FAQ

¿Cuál es el plazo de entrega de un cátodo para sputtering de rodio de tamaño personalizado?

A: Los plazos de entrega varían en función de las especificaciones, pero normalmente oscilan entre 2 y 4 semanas para formas personalizadas. Los tamaños estándar (discos de 2"-6") suelen estar en stock o tienen plazos de entrega más cortos. Póngase en contacto con nosotros para obtener un presupuesto específico.

 

¿Recomiendan adherir los blancos de rodio a una placa de soporte?

A: Sí, debido a la moderada conductividad térmica del rodio, recomendamos unir el cátodo a una placa de soporte de cobre, especialmente para aplicaciones de sputtering de CC de alta potencia. Ofrecemos servicios de unión de indio y elastómero para garantizar un contacto térmico óptimo y evitar el agrietamiento del cátodo.

 

¿Cuál es la diferencia entre los blancos de rodio de pureza 99% y 99,99%?

A: Los cátodos de mayor pureza (99,99%) suelen ser necesarios para aplicaciones de semiconductores y de investigación avanzada en las que incluso los contaminantes más diminutos pueden afectar a las propiedades de la película. Nuestros cátodos de pureza del 99% son adecuados para muchas aplicaciones de revestimiento óptico y decorativo. Especifique su aplicación cuando realice la consulta.

 

¿Puede indicar la velocidad de pulverización típica de su blanco de rodio?

A: si bien las velocidades de sputtering dependen de su equipo y parámetros específicos (potencia, presión, distancia entre el objetivo y el sustrato), nuestro equipo de ingeniería puede proporcionar datos de referencia y recomendaciones de proceso basadas en la configuración de su sistema.

Puede obtener más información sobre el proceso de sputtering en la página web de nuestro equipo de ingeniería.

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    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Otros
    • Other
    Thickness

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
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