ST0215 Cátodos para sputtering de nitruro de silicio (Si₃N₄)

Catálogo No.	ST0215
Composición	Si₃N₄
Número CAS	12033-89-5
Pureza	≥99%
Forma	Discos, o a medida
Sinónimos	Cátodos para sputtering de nitruro de silicio, Cátodos Si3N4, Cátodos para sputtering de cerámica

En Stanford Advanced Materials (SAM), fabricamos nuestros cátodos para sputtering de nitruro de silicio (Si3N4) mediante sinterizado en caliente y mecanizado de precisión. Este proceso nos permite obtener una densidad superior al 99% y un tamaño de grano fino (2-5 μm), dos características importantes para un sputtering de RF limpio y uniforme. El nitruro de silicio se utiliza para capas duras y aislantes en semiconductores, MEMS y revestimientos ópticos. Disponemos de discos estándar de 2" a 6", y sí, también hacemos tamaños personalizados.

Productos relacionados: Cátodos para sputtering de óxido de aluminio (Al2O3), Cátodos para sputtering de óxido de titanio (TiO2), Cátodos para sputtering de dióxido de silicio (SiO2)

CONSULTA

Descripción

Especificación

Opiniones

FAQ

P: ¿Qué método de sputtering se recomienda para los cátodos de nitruro de silicio?

A: el nitruro de silicio (Si3N4) es un material cerámico con una alta resistividad eléctrica, por lo que requiere granallado RF o RF-Reactivo (RF-R). El sputtering DC no es adecuado para este material debido a la acumulación de carga en la superficie del blanco.

RF o RF-Reactivo (RF-R).

P: ¿Cuál es la diferencia entre los cátodos para sputtering Si3N4 y SiN?

A: Ambas notaciones se refieren al nitruro de silicio, pero la estequiometría exacta puede variar. Si3N4 indica el compuesto estequiométrico (relación silicio-nitrógeno de 3:4). Algunas aplicaciones pueden utilizar composiciones ligeramente deficientes en nitrógeno (SiNx). Especifique sus requisitos al realizar el pedido.

P: ¿Es necesario adherir los cátodos de nitruro de silicio a una placa de soporte?

A: debido a la naturaleza quebradiza de los materiales cerámicos y a la potencia de RF utilizada, generalmente recomendamos unir los cátodos Si3N4 a una placa de soporte de cobre utilizando indio o elastómero. Esto mejora la gestión térmica y evita el agrietamiento de los cátodos durante el sputtering.

Los cátodos de Si3N4 se fijan a una placa de soporte de cobre.

P: ¿Cuál es el plazo de entrega de un cátodo para sputtering de nitruro de silicio personalizado?

A: El plazo de entrega habitual para los tamaños personalizados es de 3-4 semanas tras la confirmación del pedido. Los tamaños de disco estándar (2"-6") pueden enviarse antes. Póngase en contacto con nosotros para conocer el estado actual de las existencias.

P: ¿Puede indicar la velocidad de pulverización típica de su blanco Si3N4?

A: Las velocidades de sputtering dependen de su potencia de RF, presión y configuración del sistema específicas. Nuestro equipo técnico puede proporcionarle tasas de referencia y recomendaciones de proceso basadas en su equipo. Por favor, incluya los detalles de su sistema con su consulta.

Preguntas frecuentes.

R: Las velocidades de sputtering dependen de la potencia de RF, la presión y la configuración del sistema. Nuestro equipo técnico puede proporcionarle índices de referencia y recomendaciones de proceso basadas en su equipo. Incluya los detalles de su sistema en su consulta.

Preguntas frecuentes.

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Parámetro	Especificación
Material	Nitruro de silicio (Si₃N₄)
Pureza	≥99% (99,5% / 99,9% disponible bajo pedido)
Número CAS	12033-89-5
Color/Apariencia	Blanco grisáceo
Densidad teórica	3,44 g/cm³
Densidad relativa	>99% de la teórica
Granulometría	2-5 μm (controlado)
Método de pulverización catódica	RF, RF-Reactivo (RF-R)
Proceso de fabricación	Sinterizado en prensa caliente + mecanizado de precisión
Acabado superficial	Pulido (< 0,5 μm Ra)
Tipo de unión	Indio, elastómero (personalizable)
Forma estándar	Disco
Diámetros estándar	2", 3", 4", 6"
Grosor	3 mm, 6 mm (disponible a medida)
Embalaje	Sala limpia de clase 100, sellado al vacío

Parámetros	Especificación
Material	Nitruro de silicio (Si₃N₄)
Pureza	≥99% (99,5% / 99,9% disponible bajo pedido)
Número CAS	12033-89-5
Color/Apariencia	Blanco grisáceo
Densidad teórica	3,44 g/cm³
Densidad relativa	>99% de la teórica
Tamaño del grano	2-5 μm (controlado)
Método de pulverización catódica	RF, RF-Reactivo (RF-R)
Proceso de fabricación	Sinterizado en prensa caliente + mecanizado de precisión
Acabado superficial	Pulido (< 0,5 μm Ra)
Tipo de unión	Indio, elastómero (personalizable)
Forma estándar	Disco
Diámetros estándar	2", 3", 4", 6"
Grosor	3 mm, 6 mm (disponible a medida)
Embalaje	Sala limpia de clase 100, sellado al vacío

ST0215 Cátodos para sputtering de nitruro de silicio (Si₃N₄)

Cátodos de nitruro de silicio (Si3N4) para sputtering Descripción

Especificación del cátodo para sputtering de nitruro de silicio (Si3N4)

Aplicaciones de cátodos de nitruro de silicio (Si3N4) para sputtering

Empaquetadura de cátodos para sputtering de nitruro de silicio (Si3N4)

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P: ¿Qué método de sputtering se recomienda para los cátodos de nitruro de silicio?

P: ¿Cuál es la diferencia entre los cátodos para sputtering Si3N4 y SiN?

P: ¿Es necesario adherir los cátodos de nitruro de silicio a una placa de soporte?

P: ¿Cuál es el plazo de entrega de un cátodo para sputtering de nitruro de silicio personalizado?

P: ¿Puede indicar la velocidad de pulverización típica de su blanco Si3N4?

R: Las velocidades de sputtering dependen de la potencia de RF, la presión y la configuración del sistema. Nuestro equipo técnico puede proporcionarle índices de referencia y recomendaciones de proceso basadas en su equipo. Incluya los detalles de su sistema en su consulta.

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