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  • ST0267 Cátodos para sputtering de siliciuro de tántalo (TaSi2)

    • ST0267 Cátodos para sputtering de siliciuro de tántalo (TaSi2)

    Catálogo No. ST0267
    Composición TaSi₂
    Número CAS 12039-79-1
    Pureza ≥99 %
    Forma Discos o hechos a medida
    Sinónimos Blanco de pulverización de siliciuro de tantalio, blanco de TaSi₂

    Stanford Advanced Materials es conocida por su compromiso con la excelencia en materiales de alto rendimiento y tecnologías de producción innovadoras. Nuestros productos se desarrollan para satisfacer los exigentes requisitos de las aplicaciones industriales avanzadas, al tiempo que garantizan una fiabilidad y un rendimiento inigualables.

    Productos relacionados: Blanco de pulverización de óxido de estaño dopado con flúor (FTO), blanco de pulverización de ferrita de cobalto (CoFe₂O₄), blanco de pulverización de óxido de tantalio (Ta₂O₅)

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    Tantalum Silicide (TaSi2) Sputtering Target
    Tantalum Silicide (TaSi2) Sputtering Target
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    ST0267 Cátodos para sputtering de siliciuro de tántalo (TaSi2)
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    Composición
    TaSi₂
    Número CAS
    12039-79-1
    Pureza
    ≥99 %
    Forma
    Discos o hechos a medida
    Sinónimos
    Blanco de pulverización de siliciuro de tantalio, blanco de TaSi₂
     
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    Composición
    MoSi₂
    Número CAS
    12136-78-6
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos, o a medida
    Sinónimos
    Cátodos para sputtering de siliciuro de molibdeno, cátodos de MoSi2
     
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    Composición
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    Número CAS
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    Pureza
    ≥99%
    Forma
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    Sinónimos
    Cátodos para sputtering de siliciuro de niobio, cátodos de NbSi2
     
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    Composición
    WSi₂
    Número CAS
    12039-88-2
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos, o a medida

    FAQ

    ¿Qué propiedades hacen que el siliciuro de tantalio sea ideal para aplicaciones de pulverización catódica?

    El siliciuro de tantalio ofrece una estabilidad térmica excepcional y una alta conductividad eléctrica, lo que garantiza una deposición fiable de la película delgada y resistencia a la degradación durante el proceso de pulverización catódica.

    ¿Qué métodos de pulverización catódica son compatibles con este blanco?

    El blanco está diseñado para las técnicas de pulverización catódica por RF, RF-R y CC, lo que lo convierte en un producto versátil para una amplia gama de procesos industriales.

    ¿Se puede personalizar el objetivo para adaptarlo a los requisitos específicos de un dispositivo?

    Sí, el blanco de pulverización de siliciuro de tantalio está disponible en forma de disco estándar o se puede fabricar a medida para adaptarse a las necesidades específicas de cada aplicación.

    ¿Qué sectores son los que más se benefician del uso de blancos de pulverización de siliciuro de tantalio?

    Sectores como la fabricación de semiconductores, la electrónica avanzada y las tecnologías de recubrimiento de superficies se benefician enormemente del mayor rendimiento y la mayor durabilidad de este material.

    ¿Cómo se garantiza la calidad y la uniformidad del blanco de pulverización catódica?

    Nuestro proceso de producción incluye rigurosas medidas de control de calidad y técnicas avanzadas de atomización, lo que garantiza que cada lote cumpla con los altos estándares exigidos para aplicaciones industriales de precisión.

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