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  • ST0246 Cátodos para sputtering de fluoruro de magnesio (MgF₂)

    • ST0246 Cátodos para sputtering de fluoruro de magnesio (MgF₂)

    Catálogo No. ST0246
    Composición MgF₂
    Número CAS 7783-40-6
    Pureza ≥99% (99,9% / 99,99% disponible)
    Forma Discos o a medida
    Sinónimos Cátodos de fluoruro de magnesio para sputtering, cátodos de MgF2, cátodos de revestimiento óptico

    Stanford Advanced Materials se dedica a hacer avanzar la ciencia de los materiales mediante soluciones de ingeniería innovadoras y precisas. Nuestros productos se desarrollan para cumplir rigurosas normas industriales, garantizando un rendimiento y una fiabilidad excepcionales en todas las aplicaciones.

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    ST0246 Cátodos para sputtering de fluoruro de magnesio (MgF₂)
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    Composición
    MgF₂
    Número CAS
    7783-40-6
    Pureza
    ≥99% (99,9% / 99,99% disponible)
    Forma
    Discos o a medida
    Sinónimos
    Cátodos de fluoruro de magnesio para sputtering, cátodos de MgF2, cátodos de revestimiento óptico
     
    ST0236 Cátodos para sputtering de fluoruro de calcio (CaF2)
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    Composición
    CaF₂
    Número CAS
    7789-75-5
    Pureza
    ≥99%
    Formas
    Discos, o a medida
    Sinónimos
    Cátodos para sputtering de fluoruro de calcio, Cátodos CaF2
     
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    Composición
    LiF
    Número CAS
    7789-24-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos, o a medida
     
    ST0263 Cátodos para sputtering de siliciuro de magnesio (Mg2Si)
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    Composición
    Mg₂Si
    Número CAS
    22831-39-6
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos, o a medida
    Sinónimos
    Cátodos para sputtering de siliciuro de magnesio, cátodos Mg2Si

    FAQ

    P: ¿Qué pureza de blanco de MgF2 necesito para revestimientos ópticos?

    A: una pureza del 99,9% es suficiente para la mayoría de los revestimientos ópticos antirreflectantes y protectores. Se recomienda un 99,99% para la óptica láser y las aplicaciones de semiconductores de alta precisión, en las que las trazas de impurezas pueden afectar a la transmisión o causar defectos.

     

    P: ¿Por qué es necesario el sputtering de RF para el MgF2?

    A: El MgF2 es un aislante eléctrico. La pulverización catódica de CC provocará la acumulación de carga en la superficie del blanco, lo que provocará la formación de arcos y la inestabilidad del proceso. Se requiere sputtering de RF.

     

    P: ¿Es necesario unir los objetivos de MgF2?

    A: Sí, se recomienda el pegado. El MgF2 es frágil y tiene una baja conductividad térmica. Sin una unión adecuada a una placa de soporte refrigerada, la tensión térmica puede agrietar el blanco durante el sputtering. La unión con indio es estándar; la unión con elastómero está disponible para los sistemas que no pueden utilizar indio.

    La unión con elastómero está disponible para los sistemas que no pueden utilizar indio.

     

    P: ¿Cuál es la velocidad de sputtering típica del MgF2?

    A: las velocidades de sputtering dependen de la potencia de RF, la presión y la configuración del sistema. Las velocidades típicas oscilan entre 5-15 Å/seg a 3-5 W/cm². Póngase en contacto con nosotros para obtener recomendaciones específicas.

     

    P: ¿Cuál es el plazo de entrega de un objetivo MgF2 personalizado?

    A: Los discos estándar (2"-6") suelen enviarse en 1-2 semanas. Las formas personalizadas tardan de 2 a 3 semanas dependiendo de la complejidad.

     

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