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  • ST0300 Blanco para sputtering de boruro de titanio (TiB2)

    • ST0300 Blanco para sputtering de boruro de titanio (TiB2)

    Catálogo No. ST0300
    Composición TiB₂
    Número CAS 12045-63-5
    Pureza ≥99 %
    Forma Discos o hechos a medida
    Sinónimos Blanco de pulverización de boruro de titanio, blanco de TiB₂

    El blanco de pulverización de boruro de titanio (TiB₂) es reconocido por su excepcional rendimiento y fiabilidad en procesos de pulverización de alta exigencia. Stanford Advanced Materials se dedica a ofrecer soluciones innovadoras en materiales con una calidad y precisión superiores, garantizando que nuestros productos cumplan con los rigurosos estándares de las aplicaciones industriales avanzadas.

    Productos relacionados: blanco de pulverización de ferrita de titanio (TiFe₂O₄), blanco plano de siliciuro de titanio, blanco de TiSi₂, blanco de titanio y silicio, blanco de TiSi

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    Titanium Boride (TiB2) Sputtering Target
    Titanium Boride (TiB2) Sputtering Target
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    ST0300 Blanco para sputtering de boruro de titanio (TiB2)
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    Composición
    TiB₂
    Número CAS
    12045-63-5
    Pureza
    ≥99 %
    Forma
    Discos o hechos a medida
    Sinónimos
    Blanco de pulverización de boruro de titanio, blanco de TiB₂
     
    BC1695 Boruro de titanio en polvo (TiB2 en polvo) (Nº CAS 12045-63-5)
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    Material
    TiB2
    Número CAS
    12045-63-5
    Apariencia
    Polvo gris
    Punto de fusión
    ~2980 ℃
    Sinónimos
    Polvo de boruro de titanio, polvo de TiB₂
     
    ST0292 Blanco para sputtering de boruro de cromo (CrB2)
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    Composición
    CrB₂
    Número CAS
    12007-16-8
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos, o a medida
    Sinónimos
    Cátodos para sputtering de boruro de cromo, cátodos CrB2
     
    ST0299 Blanco para sputtering de boruro de tántalo (TaB2)
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    Composición
    TaB₂
    Número CAS
    12007-35-1
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos, o a medida

    FAQ

    ¿Cuáles son las aplicaciones habituales de un blanco de pulverización de TiB₂?

    Se utiliza ampliamente en la deposición de películas finas para semiconductores, en recubrimientos protectores avanzados, en la fabricación de componentes aeroespaciales y en la fabricación de dispositivos electrónicos.

    ¿Por qué es importante que los blancos de pulverización catódica tengan un punto de fusión elevado?

    Un punto de fusión elevado garantiza que la pieza de trabajo pueda soportar el intenso calor generado durante el proceso de pulverización sin que se vea comprometida su integridad estructural.

    ¿Cómo se fabrica el blanco de pulverización de boruro de titanio (TiB₂)?

    Se fabrica mediante técnicas de fabricación avanzadas que garantizan una alta pureza y una estructura uniforme del material, aspectos fundamentales para un rendimiento constante en el proceso de pulverización catódica.

    ¿En qué consiste la pulverización catódica por RF?

    La pulverización catódica por radiofrecuencia utiliza energía de radiofrecuencia para generar un plasma, lo que facilita la deposición de películas finas incluso sobre sustratos aislantes.

    ¿Hay formas personalizadas disponibles para el blanco de pulverización TiB₂?

    Sí, nuestras piezas de pulverización de boruro de titanio pueden fabricarse en forma de discos o con formas personalizadas que se adapten a los requisitos específicos de cada cliente.

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