ST0217 Blanco para sputtering de nitruro de titanio (TiN)

Descripción del cátodo para sputtering de nitruro de titanio (TiN)

El cátodo para sputtering de nitruro de titanio (TiN) es un material de última generación diseñado para aplicaciones de precisión. Fabricado con un estricto control de calidad, este cátodo presenta una excelente estabilidad térmica y una microestructura densa y homogénea, garantizando un rendimiento excepcional en los procesos de sputtering RF y RF-R. Su aspecto amarillo dorado es indicativo de su alta calidad y pureza. El producto es un candidato ideal para aplicaciones de deposición que requieran durabilidad, baja densidad de defectos y alta eficacia operativa.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de nitruro de titanio (TiN)

- Fabricación de dispositivos semiconductores: Proporciona una excelente uniformidad y adherencia de la película para circuitos integrados y estructuras de transistores.
- Recubrimientos decorativos: Ofrece un acabado lustroso y una mayor resistencia al desgaste para aplicaciones decorativas de alta gama.
- Recubrimientos ópticos: Permite un control preciso de las propiedades ópticas en películas finas para lentes y espejos.
- Componentes industriales: Adecuado para producir componentes que requieren una resistencia superficial avanzada al desgaste y la corrosión.

Nitruro de titanio (TiN) Embalaje de cátodos para sputtering

Nuestros cátodos de nitruro de titanio (TiN) para sputtering se embalan con sumo cuidado para mantener su integridad durante el transporte y el almacenamiento.
- Opciones de embalaje a medida: Según los requisitos del cliente, garantizando una protección óptima.
- Sellado estándar: Embalaje al vacío o con gas inerte para evitar la contaminación y la oxidación.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué aplicaciones son las más adecuadas para el cátodo para sputtering TiN?
R: Se utiliza idealmente en la fabricación de semiconductores, revestimientos decorativos, revestimientos ópticos y otras aplicaciones industriales de precisión que requieren un alto rendimiento y estabilidad.

P: ¿Cómo se beneficia el proceso de sputtering del uso de un cátodo de TiN?
R: La alta pureza y la microestructura uniforme del cátodo garantizan una excelente uniformidad, adherencia y durabilidad de la película en los revestimientos por sputtering.

P: ¿Se pueden personalizar los tamaños disponibles para aplicaciones específicas?
R: Sí, el cátodo está disponible en tamaños personalizados para satisfacer los requisitos específicos de los equipos y las necesidades de las aplicaciones.

P: ¿Qué importancia tiene utilizar métodos de sputtering RF y RF-R con este cátodo?
R: Los métodos de sputtering RF y RF-R son adecuados para cátodos aislantes o resistivos como el TiN, garantizando una transferencia de energía eficiente y una deposición de película de alta calidad.

P: ¿Cómo debe almacenarse el cátodo para sputtering de TiN para mantener su calidad?
R: Debe almacenarse en un entorno seco, limpio y a temperatura controlada, preferiblemente en contenedores sellados al vacío o envasados con gas inerte para evitar la oxidación y la contaminación.