Nitruro de boro pirolítico OLED Crisol Descripción
El crisol OLED de nitruro deboro pirolítico es un tipo de crisol PBN utilizado en la tecnología de evaporación OLED y CIGS. Se utiliza ampliamente en la evaporación de metales y semiconductores por su pureza ultra alta, su inercia química, su excelente resistencia a altas temperaturas y su estabilidad a altas temperaturas.
Especificaciones del crisol OLED de nitruro de boro pirolítico
Características mecánicasdel PBN
Artículo
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Datos
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Unidad
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Densidad
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g/cm3
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1.95-2.20
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Resistencia a la tracción
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MPa
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112
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Resistencia a la flexión
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MPa
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173
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Resistencia a la compresión
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MPa
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154
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Módulo de Young
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GPa
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18
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Conductividad térmica
(por debajo de 1500℃)
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W/m℃
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"a" 60
"c" 2
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Calor específico
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J/g-℃
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0,90 (RT)
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Resistividad
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Ω.cm
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2×1015
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Rigidez dieléctrica
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C.D. voltios/mm
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2×1015
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Constante dieléctrica
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-
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"c" 3.07
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Contenido de impurezas metálicas
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ppm
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<10
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Especificaciones típicas del crisol PBN LEC
Especificación
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Diámetro interior (mm)
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Diámetro del labio (mm)
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Altura (mm)
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300cc
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55
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70
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160
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500cc
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55
|
82
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190
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580cc
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62
|
84
|
186
|
700cc
|
61
|
85
|
240
|
1200cc
|
78
|
115
|
250
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Aplicaciones del crisol OLED de nitruro de boro pirolítico
El crisol OLED de nitruro de boro pirolítico se utiliza para la síntesis de GaAs, InP, GaP y otros monocristales semiconductores y otros monocristales de compuestos III-V mediante el método LEC.
Embalaje del crisol OLED de nitruro de boro pirolítico
Nuestro crisol OLED de nitruro de boro pirolítico se manipula cuidadosamente durante el almacenamiento y el transporte para preservar la calidad de nuestro producto en su estado original.
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