Blanco giratorio de molibdeno ST6545

Catálogo No.	ST6545
Material	Mo
Número CAS	7439-98-7
Dimensiones	Personalizado
Pureza	≥99,95% o 99,97%.
Densidad	≥10,15 g/cm3
Formulario	Objetivo

Los cátodos de molibdeno para sputtering rotativo son materiales de alto rendimiento diseñados para la deposición de película fina en aplicaciones de revestimiento de gran superficie. Stanford Advanced Materials (SAM) suministra cátodos de molibdeno de gran pureza para sputtering rotativo destinados a la deposición de películas finas en pantallas, células solares y revestimientos ópticos. Estos cátodos garantizan una calidad de película uniforme, una excelente conductividad y una larga vida útil, con opciones personalizables para satisfacer las distintas necesidades de la industria.

Otras formas: Cátodos para sputtering de molibdeno, Cátodos planares para sputtering de molibdeno (Mo)

Productos relacionados: Cátodos para sputtering de molibdeno renio, Cátodos para sputtering de disilicida de molibdeno, Cátodos para sputtering de silicio de molibdeno, Cátodos para sputtering de seleniuro de molibdeno, Cátodos para sputtering de boruro de molibdeno.

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Blanco giratorio de molibdeno ST6545

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Material

Número CAS

7439-98-7

Dimensiones

Personalizado

Pureza

≥99,95% o 99,97%.

Densidad

≥10,15 g/cm3

Formulario

Objetivo

ST0047: Blancos y discos de pulverización de aleación de niobio y circonio

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Material

R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)

Dimensiones

Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm

Pureza

99,9 % 99,95 % 99,99 %

ST0056 Blancos de aleación de niobio y hafnio (NbHf)

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Dimensiones

Diámetro: 10-400 mm, o a medida

Material

Nb-10Hf

Formulario

Blanco, Disco

ST0334 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)

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Material

90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2

Pureza

>=99.99%

Densidad

7,1 g/cm3

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Densidad	≥10,15 ^g/cm3
Tamaño medio del grano	≤100 um
Rugosidad	≤0,8 um
Planitud	≤0,30 mm
Tasa de adhesión	≥98%

Contenido principal, %, min	Mo	99.95	99.97
Contenido de impurezas (fracción de masa), %, máx	Al	0.0050	0.0010
	Ca	0.0020	0.0020
	Cr	0.0100	0.0020
	Cu	0.0020	0.0020
	Fe	0.0050	0.0020
	K	-	0.0020
	Mg	0.0020	0.0010
	Na	-	0.0010
	Ni	0.0050	0.0010
	Si	0.0050	0.0020
	W	0.0300	0.0300
	S	0.0050	-
	Cd	0.0001	-
	C	0.0100	0.0030
	O	0.0080	0.0040
	N	0.0030	0.0010

Rotativo	G6	φ135/167*2158
Rotativo	G8.5	φ135/167*2692

Característica	Cátodos rotativos de molibdeno	Cátodos planares de molibdeno
Utilización del material	Hasta el 80-90	Alrededor del 30-40
Vida útil	Más larga, reduciendo la frecuencia de sustitución	Más corta, lo que requiere una sustitución más frecuente
Uniformidad del revestimiento	Más uniforme, ideal para revestimientos de gran superficie	Puede presentar variaciones de espesor
Coste de producción	Mayor coste inicial pero más económico a largo plazo	Menor coste inicial pero requiere cambios más frecuentes
Aplicaciones	Recubrimientos de gran superficie (TFT-LCD, células solares, recubrimientos ópticos)	Recubrimientos de pequeña superficie (semiconductores, electrónica de precisión)
Estabilidad del sputtering	Más estable, reduce la pérdida de material	Potencialmente menos estable debido a la erosión desigual
Equipos compatibles	Requiere sistemas de sputtering rotativo	Compatible con los sistemas tradicionales de sputtering planar

Densidad	≥10,15 ^g/cm3
Tamaño medio del grano	≤100 um
Rugosidad	≤0,8 um
Planitud	≤0,30 mm
Tasa de adhesión	≥98%

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

Blanco giratorio de molibdeno ST6545

Descripción de los cátodos rotativos de molibdeno

Especificación de cátodos rotativos de molibdeno

Aplicaciones de los cátodos rotativos de molibdeno

Embalaje de las dianas giratorias de molibdeno

Proceso de fabricación

Preguntas frecuentes sobre el blanco rotativo de molibdeno

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