Polvo esférico de tántalo (Ta) Descripción
El polvo esférico de tántalo (Ta) tiene diversos usos en las industrias tradicionales y de alta tecnología, como la pulverización en frío, las materias primas de pulverización de plasma, los aditivos de aleación de alta pureza, la fabricación SLM de implantes metálicos quirúrgicos, las prótesis ortopédicas y la fabricación aditiva de piezas de blindaje complejas resistentes a los ácidos y a la corrosión. Se caracteriza por su gran pureza, tamaño uniforme de las partículas, estructura superficial completa, fácil dispersión, gran superficie específica y elevada actividad superficial. Los condensadores de tántalo son los productos condensadores más utilizados en el campo de la electrónica militar. El tamaño de los productos electrónicos es cada vez más pequeño, y los condensadores de tántalo deben desarrollarse en la dirección de la miniaturización y la alta capacidad.
Especificaciones del polvo esférico de tántalo (Ta)
- Ta (50nm)
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Ta (%)
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Ti (%)
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W (%)
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Mo (%)
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Cr (%)
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Fe (%)
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O (%)
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>99.9
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<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.8
|
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Morfología del polvo
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Distribución del tamaño de las partículas (nm)
|
Superficie específica (m2/g)
|
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D10
|
D50
|
D90
|
|
Esférica
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0-30
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50-60
|
<300
|
≥10.0
|
- Ta (100nm)
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Ta (%)
|
Ti (%)
|
W (%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.5
|
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Morfología del polvo
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Distribución del tamaño de las partículas (nm)
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Superficie específica (m2/g)
|
|
D10
|
D50
|
D90
|
|
Esférica
|
30-60
|
80-100
|
<1000
|
≥8.0
|
- Ta (1-10um)
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Ta (%)
|
Ti(%)
|
W(%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.08
|
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Esfericidad (%)
|
Distribución del tamaño de las partículas (um)
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Densidad de toma (g/cm3)
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|
D10
|
D50
|
D90
|
|
>94
|
>1
|
5±2
|
<10
|
≥10.5
|
- Ta (5-25um)
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Ta (%)
|
Ti (%)
|
W (%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
<0.02
|
|
Esfericidad (%)
|
Distribución del tamaño de las partículas (um)
|
Densidad aparente
(g/cm3)
|
Densidad en grifo
(g/cm3)
|
Fluidez
(s/50g)
|
|
D10
|
D50
|
D90
|
|
>94
|
≥5
|
15±3
|
≤25
|
≥10.0
|
≥10.5
|
≤8.0
|
- Ta (15-45um)
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Ta (%)
|
Ti (%)
|
W (%)
|
Mo (%)
|
Cr (%)
|
Fe (%)
|
O (%)
|
|
>99.9
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.001
|
<0.0001
|
<0.01
|
≤0.01
|
|
Esfericidad (%)
|
Distribución del tamaño de las partículas (um)
|
Densidad aparente
(g/cm3)
|
Densidad en grifo
(g/cm3)
|
Fluidez
(s/50g)
|
|
D10
|
D50
|
D90
|
|
>94
|
>15
|
30±3
|
<45
|
≥9.5
|
≥10.0
|
≤6.0
|
Aplicaciones del polvo esférico de tántalo (Ta)
Eltantalio esférico en polvo (Ta) cuenta con diversas aplicaciones en industrias tradicionales y de alta tecnología. Sirve como ingrediente clave en técnicas de fabricación avanzadas como la pulverización en frío y la pulverización de plasma, proporcionando materias primas para estos procesos. Además, desempeña un papel vital como aditivo de aleaciones de alta pureza, mejorando las propiedades de las aleaciones para diversas aplicaciones.
En el ámbito de la fabricación avanzada, este polvo es crucial para la fusión selectiva por láser (SLM), que facilita la producción de implantes metálicos quirúrgicos complejos, incluidas las prótesis ortopédicas. Además, resulta útil en la fabricación aditiva para elaborar piezas de blindaje complejas resistentes a los ácidos y a la corrosión. En resumen, el polvo esférico de tántalo es un material versátil que desempeña un papel esencial en el avance de sectores como la sanidad y la ingeniería de materiales.
Embalaje de tantalio esférico en polvo (Ta)
Nuestro polvo esférico de tantalio (Ta ) se manipula cuidadosamente durante el almacenamiento y el transporte para preservar la calidad de nuestro producto en su estado original.
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