ST0141 Cátodos para sputtering de óxido de cromo (Cr2O3)

Cátodos para sputtering de óxido de cromo (Cr2O3) Descripción

El cátodo para sputtering de óxido de cromo (Cr2O3) está diseñado utilizando técnicas de fabricación de última generación para garantizar una uniformidad excepcional, alta densidad y durabilidad superior en entornos de deposición exigentes. Diseñado específicamente para sputtering RF y RF-R, este cátodo garantiza un rendimiento óptimo con impurezas mínimas, lo que lo convierte en una elección fiable para aplicaciones de alta precisión.

Aplicaciones de cátodos para sputtering de óxido de cromo (Cr2O3)

- Fabricación de semiconductores: Permite la deposición precisa de películas finas para circuitos integrados y dispositivos microelectrónicos.
- Recubrimientos ópticos: Ideal para depositar recubrimientos duraderos y de alto rendimiento en componentes ópticos.
- Células solares: Facilita la formación de capas eficientes y estables en aplicaciones fotovoltaicas.
- Cerámica avanzada: Utilizado en diversas técnicas de procesamiento de cerámica que requieren cátodos de óxido de gran pureza.
- Investigación y desarrollo: Apoya los procesos experimentales de deposición para aplicaciones de materiales innovadores.

Embalaje de cátodos para sputtering de óxido de cromo (Cr2O3)

Nuestros cátodos para sputtering de óxido de cromo (Cr2O3) se embalan cuidadosamente para mantener su integridad durante el almacenamiento y el transporte. Los productos se suelen sellar al vacío y embalar de acuerdo con las especificaciones del cliente para garantizar una entrega segura y preservar la calidad del material.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué significa sputtering de RF?
R: El sputtering por RF se refiere al uso de energía de radiofrecuencia para generar plasma, que desplaza el material objetivo para la deposición de películas finas, lo que lo hace adecuado para materiales aislantes y dieléctricos.

P: ¿Qué importancia tiene la pureza en un cátodo para sputtering?
R: La alta pureza (≥99%) es fundamental, ya que minimiza la contaminación en las películas depositadas, garantizando el rendimiento y la fiabilidad del producto final.

P: ¿Se puede personalizar la forma del cátodo para sputtering?
R: Sí, el producto está disponible en formas de disco estándar o puede fabricarse a medida según los requisitos específicos del proceso.

P: ¿Qué industrias se benefician del uso de cátodos para sputtering de óxido de cromo?
R: Industrias como la fabricación de semiconductores, la óptica, la energía solar y la cerámica avanzada, así como los sectores de I+D, se benefician del alto rendimiento de los cátodos para sputtering de óxido de cromo.

P: ¿Qué condiciones de almacenamiento se recomiendan para estos cátodos para sputtering?
R: Se recomienda almacenar los cátodos en un entorno controlado libre de humedad y contaminantes, normalmente en envases sellados al vacío para mantener su estado prístino.