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CY2356 Sustrato de cristal de dióxido de titanio rutilo (TiO2)

Catálogo No. CY2356
Material TiO₂ rutílico (dióxido de titanio)
Pureza >99,99 %
Orientación <001>, <110>, <100>, <111>
Método de crecimiento Método de la llama, método de zona flotante
Estructura cristalina Tetragonal
Parámetro de red a = 4,5936 Å, c = 2,9582 Å
Dimensiones 5 × 5 × 10 mm, 5 × 10 × 10 mm, 10 × 10 × 0,5 mm, diámetro 20 × 0,5 mm

SAM suministra sustratos monocristalinos de TiO₂ de rutilo de alta pureza (99,99 %) para la deposición de películas finas, recubrimientos ópticos y aplicaciones en sensores biomédicos. Con un alto índice de refracción (no = 2,47, ne = 2,73 a 1,3 µm), una excelente estabilidad térmica y orientaciones disponibles que incluyen <001>, <110>, <100> y <111>, estos sustratos son ideales para el crecimiento epitaxial de películas finas de óxido y recubrimientos funcionales. Dimensiones personalizadas disponibles bajo pedido.

Productos relacionados: sustratos de cristal de KTaO₃, sustratos de cristal de LSAT, sustratos de cristal de LiF, sustrato monocristalino de antimonuro de galio.

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Rutile Titanium Dioxide (TiO2) Crystal Substrate
Rutile Titanium Dioxide (TiO2) Crystal Substrate
Descripción
Especificación
SDS
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Material
TiO₂ rutílico (dióxido de titanio)
Pureza
>99,99 %
Orientación
<001>, <110>, <100>, <111>
Método de crecimiento
Método de la llama, método de zona flotante
Estructura cristalina
Tetragonal
Parámetro de red
a = 4,5936 Å, c = 2,9582 Å
Dimensiones
5 × 5 × 10 mm, 5 × 10 × 10 mm, 10 × 10 × 0,5 mm, diámetro 20 × 0,5 mm
 
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Pureza
99,99 %
Fórmula química
GaSb
Diámetro
2", 3", 4"
Espesor
500 ± 25 μm, 600 ± 25 μm, 800 ± 25 μm
Orientación
(100) / (111) ±0,5°
 
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Material
GaN
Espesor
300-450um
Diámetro
Ø 2" / Ø 4" / Ø 6"
 
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Material
Al2O3
Espesor
0,35-1 mm, o a medida
Diámetro
Ø 1-8", o a medida
Formulario
Oblea
Pureza
≥99.999%
Sinónimos
Oblea de zafiro, Oblea de Al2O3

FAQ

P1: ¿Cuáles son las principales aplicaciones de los sustratos monocristalinos de TiO₂ rutílico?

Los sustratos de TiO₂ de rutilo se utilizan en la deposición de películas finas (películas finas ferroeléctricas, piezoeléctricas y superconductoras), en dispositivos ópticos polarizadores (aisladores y divisores de haz) y en sensores biomédicos. Su elevado índice de refracción y su estabilidad térmica los convierten en materiales versátiles para aplicaciones tanto de investigación como industriales.

Pregunta 2: ¿Qué orientaciones hay disponibles para los sustratos monocristalinos de TiO₂?

Ofrecemos las orientaciones <001>, <110>, <100> y <111>. La orientación <001> es la más utilizada para el crecimiento epitaxial de películas finas. Se ofrecen orientaciones personalizadas bajo pedido.

Pregunta 3: ¿Cuál es la pureza de sus sustratos monocristalinos de TiO₂?

Nuestros sustratos monocristalinos de TiO₂ tienen una pureza superior al 99,99 %, lo que garantiza una alta calidad cristalina y un mínimo de defectos relacionados con las impurezas para aplicaciones en las que la superficie es un factor crítico.

Pregunta 4: ¿Puedo pedir dimensiones u orientaciones personalizadas?

Sí. Ofrecemos dimensiones, orientaciones y opciones de pulido a medida (por una cara o por ambas). Ponte en contacto con nosotros para indicarnos tus requisitos específicos.

Pregunta 5: ¿Cómo deben almacenarse y manipularse los sustratos de TiO₂?

Almacene los sustratos de TiO₂ en un entorno limpio y seco, dentro de su envase original para obleas. Manipúlelos con guantes limpios y pinzas de vacío, y evite tocar la superficie del sustrato. Para aplicaciones de crecimiento epitaxial, recomendamos almacenarlos en una sala limpia antes de su uso.

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