ST11203 Blanco rotativo de níquel-cobre, blanco NiCu

Cátodos rotativos de níquel-cobre, NiCu Descripción

El cátodo rotativo de níquel-cobre, NiCu, es un cátodo de aleación para sputtering utilizado para depositar películas finas en aplicaciones de semiconductores y recubrimientos. La aleación mantiene una proporción definida de níquel y cobre, lo que permite un desarrollo controlado de la microestructura durante el sputtering. Sus dimensiones personalizables facilitan la compatibilidad con los sistemas de deposición estándar, mientras que sus propiedades físicas equilibradas garantizan una calidad de película uniforme y una utilización eficaz del material.

Blanco rotativo de níquel-cobre, blanco NiCu Características

La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólode referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco rotativo de níquel-cobre, blanco de NiCu Aplicaciones

Electrónica
- Se utiliza como cátodo para sputtering en la fabricación de circuitos integrados para conseguir una deposición uniforme de la película aprovechando la composición controlada de la aleación.

Recubrimientos Industriales
- Aplicado como material de partida en procesos de revestimiento para mejorar la dureza de la superficie y la resistencia al desgaste utilizando las propiedades mecánicas equilibradas de la aleación.

Cátodos rotativos de níquel-cobre, NiCu Embalaje de los cátodos

El producto se envasa en bolsas selladas antiestáticas y se asegura dentro de contenedores rígidos resistentes a la humedad. El envoltorio protector minimiza el riesgo de contaminación y daños mecánicos durante el transporte. El almacenamiento debe realizarse en un entorno limpio y de clima controlado para evitar la oxidación. Se pueden solicitar opciones de envasado personalizadas, incluida la protección con gas inerte y etiquetado especializado.

Información adicional

Los cátodos para sputtering, como el cátodo rotativo de níquel-cobre, desempeñan un papel crucial en la deposición de películas finas para aplicaciones industriales. Su composición precisa y la integridad de su superficie influyen directamente en la calidad de los recubrimientos producidos. La investigación sobre el comportamiento de las aleaciones en condiciones de sputtering de alta energía sigue mejorando la uniformidad y la eficacia de la deposición.

Los avances en la ciencia de los materiales han permitido mejorar los métodos de control de calidad de los cátodos para sputtering. El análisis detallado, que incluye la caracterización microestructural y los ensayos de composición, garantiza que estos materiales satisfagan las demandas cambiantes de las industrias de semiconductores y revestimientos.