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Blanco giratorio de níquel ST11201, blanco de Ni

Catálogo No. ST11201
Composición Ni
Pureza ≥99,9%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Tubular
Dimensiones Personalizado

El cátodo rotativo de níquel, Ni Target, es un cátodo para sputtering fabricado con níquel elemental. Fabricado por Stanford Advanced Materials (SAM), este producto se fabrica con un control metalúrgico preciso y una tolerancia dimensional exacta para aplicaciones de sputtering. SAM emplea mediciones detalladas de la densidad y evaluaciones microscópicas de la superficie durante la producción para controlar la homogeneidad del material y eliminar los defectos de la superficie, garantizando que el cátodo cumpla las normas técnicas más exigentes.

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FAQ

¿Cómo afecta el diseño rotativo a la uniformidad de deposición en aplicaciones de sputtering?

El mecanismo giratorio distribuye la erosión uniformemente por toda la superficie del objetivo. Esta eliminación uniforme del material minimiza el calentamiento localizado, mejorando la uniformidad de la película y prolongando la vida útil del objetivo durante el proceso de deposición.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar dimensiones personalizadas para este objetivo?

Las dimensiones personalizadas permiten la integración con diversos sistemas de sputtering. Al adaptar el cátodo a geometrías de cámara específicas, los usuarios pueden conseguir velocidades de deposición óptimas y espesores de película uniformes en todos los sustratos, minimizando los ajustes del proceso.

¿Cómo se gestiona el control de calidad durante la producción de este blanco de níquel?

El control de calidad implica rigurosas comprobaciones de densidad e inspecciones de superficie mediante microscopía óptica. Estos procedimientos verifican la homogeneidad del material y detectan las imperfecciones de la superficie, garantizando que el blanco se ajusta a las normas industriales definidas. Póngase en contacto con nosotros si desea más información.

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