CY8550 Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas Descripción

Este sustrato de cristal de silicio (Si), con una orientación cristalográfica (111) y un diámetro de 3 pulgadas, está diseñado para ofrecer un rendimiento superior en los procesos de semiconductores de vanguardia. Su estructura cristalina altamente ordenada proporciona una uniformidad excelente y unas propiedades eléctricas óptimas, lo que lo hace ideal para aplicaciones avanzadas como la microelectrónica, la fotónica y la fabricación de sensores. Al ofrecer bajas densidades de defectos y una planitud superficial excepcional, este sustrato garantiza unas características fiables de los dispositivos y unos resultados de producción uniformes.

Cada oblea, fabricada conforme a las estrictas normas del sector, se somete a rigurosos protocolos de control de calidad, que incluyen mediciones precisas del grosor y meticulosas inspecciones de la superficie. Esta cuidadosa atención a los detalles contribuye a garantizar rendimientos uniformes y un rendimiento estable de los dispositivos, lo que permite a investigadores y fabricantes mantener parámetros de proceso precisos. Elija este sustrato de cristal de silicio (111) para lograr el máximo nivel de fiabilidad y rendimiento en sus proyectos más exigentes.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas Aplicaciones

El sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas es una oblea de alta calidad conocida por su excelente orientación cristalina, fiabilidad y uniformidad. Con un control preciso del dopaje y unos defectos mínimos, este sustrato proporciona una plataforma estable esencial para la fabricación y la investigación avanzadas. Su superior resistencia mecánica, conductividad térmica y versatilidad funcional lo convierten en un componente crítico en numerosas aplicaciones industriales, científicas y comerciales.

1. Aplicaciones industriales

-Producción de dispositivos semiconductores de alta eficiencia, aprovechando el dopaje uniforme y la mínima densidad de defectos del sustrato.

-Unión robusta de obleas y fabricación de MEMS, garantizando la resistencia mecánica y la estabilidad térmica.

2. Aplicaciones de investigación

-Ensayos punteros de caracterización de materiales y crecimiento de películas finas

-Experimentos a escala cuántica que requieren una orientación cristalina constante para mediciones precisas.

3. Aplicaciones comerciales

-Sensores ópticos y procesamiento de plasma, que dependen de la alta pureza y durabilidad de la oblea.

-Prototipos de células solares en los que el dopaje controlado y la calidad cristalina superior mejoran la conversión de energía.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas Embalaje

Cada sustrato de cristal de silicio (Si) (111) con un diámetro de 3 pulgadas está sellado individualmente en una bolsa de doble capa para salas limpias llena de gas de procesamiento inerte. Los insertos de espuma y los materiales antiestáticos protegen el sustrato de las tensiones mecánicas, mientras que los contenedores sellados bloquean el polvo y la humedad. Almacene en un entorno con temperatura y humedad controladas. La personalización opcional del envase incluye etiquetado especializado, bolsas selladas al vacío y bandejas disipadoras de estática para mejorar la prevención de la contaminación.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del material del sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas?

R1: Los sustratos de cristal de silicio (Si) en la orientación (111), que miden tres pulgadas de diámetro, suelen presentar un alto grado de perfección cristalina, con bajas densidades de dislocaciones. Presentan una excelente conductividad térmica, niveles moderados de dopaje para una resistividad eléctrica específica y una baja rugosidad superficial (menos de 1 nm) para la fabricación de dispositivos. La orientación (111) es especialmente adecuada para determinados procesos de crecimiento epitaxial, ya que garantiza una calidad uniforme de la capa.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

A2: La manipulación adecuada de un sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas es esencial para preservar la calidad de la superficie y evitar la contaminación. Los operarios deben utilizar guantes de sala limpia y pinzas no abrasivas, manipulando los sustratos sólo por los bordes. El sustrato debe almacenarse en un portador de obleas seguro y sellado al vacío o en un entorno purgado con nitrógeno para minimizar la oxidación. Los controles de temperatura y humedad son cruciales para evitar la deformación, la formación de grietas o la degradación de la superficie inducida por la humedad.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas?

A3: El sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas cumple normalmente las normas SEMI M1 para materiales semiconductores, que abordan las tolerancias dimensionales, la planitud de la superficie, la uniformidad del dopaje y el control de defectos. Otras normas, como la ISO 9001, garantizan una sólida gestión de la calidad, mientras que los estrictos procesos de cualificación de proveedores garantizan la pureza del sustrato. El cumplimiento de las normativas medioambientales y de seguridad, incluidas RoHS y REACH, subraya aún más el compromiso con la fiabilidad, la trazabilidad y la aceptación mundial de los productos.

Información relacionada

1. Propiedades y ventajas del material

Moldeado a partir de un único cristal con orientación (111), el sustrato de cristal de silicio (Si) Dia. 3 pulgadas muestra una excelente alineación atómica que mejora la movilidad de los portadores y minimiza los defectos del cristal. Esta orientación también proporciona una topografía de superficie distinta, facilitando la deposición epitaxial uniforme, crucial para la fiabilidad de los dispositivos electrónicos. Además, la refinada disposición reticular del sustrato contribuye a un grosor uniforme y a un daño mínimo de la subsuperficie, lo que garantiza una estabilidad mecánica superior a lo largo de procesos a alta temperatura.

Mediante un cuidadoso pulido y un estricto control dimensional, este sustrato de cristal de silicio (Si) cumple las exigentes normas de calidad en cuanto a planitud y rugosidad superficial. El diámetro de 3 pulgadas permite a los fabricantes optimizar el rendimiento de la producción sin comprometer la integridad de la oblea. Al ofrecer una gran pureza cristalina y una excepcional conductividad térmica, admite pasos de microfabricación complejos como la litografía y el dopaje, ofreciendo en última instancia un gran rendimiento tanto en aplicaciones de investigación como industriales.

2. Aplicaciones en la industria avanzada

En la investigación altamente especializada en semiconductores, el sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas desempeña un papel fundamental en el desarrollo de tecnologías innovadoras para la electrónica de potencia y los circuitos integrados de alta velocidad. Su orientación ayuda a garantizar un excelente transporte de carga, lo que permite a los diseñadores de dispositivos extraer la máxima eficiencia en sus aplicaciones. Desde transistores de alta frecuencia hasta avanzados sistemas microelectromecánicos (MEMS), este sustrato constituye una base versátil para muchos proyectos de vanguardia.

Adecuados para componentes ópticos de precisión, estos sustratos también se utilizan en aplicaciones fotónicas y procesos de fabricación de sensores que exigen una integridad cristalina de primer nivel. Su capacidad para soportar integraciones heterogéneas complejas abre nuevas vías en computación cuántica y nanotecnología, donde es primordial un control estricto de las propiedades de las interfaces. Al combinar una estabilidad térmica superior con una calidad de superficie constante, el sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Dia. 3 pulgadas satisface las necesidades cambiantes de las industrias avanzadas centradas en ampliar los límites del rendimiento.