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  • ST11467 Blanco de titanio y silicio, blanco TiSi

    • ST11467 Blanco de titanio y silicio, blanco TiSi

    Catálogo No. ST11467
    Composición TiSi
    Forma Redondo, rectangular, personalizado
    Formulario Objetivo
    Pureza Ti+Si: ≥99%.

    El cátodo de titanio-silicio, TiSi Target, se fabrica para procesos de sputtering en aplicaciones de capa fina. Fabricado por Stanford Advanced Materials (SAM), presenta una composición uniforme de TiSi verificada mediante imágenes SEM y perfilometría láser. SAM realiza rigurosas pruebas por lotes y microanálisis para minimizar los contaminantes y garantizar la uniformidad de las propiedades del material. El entorno de procesamiento controlado favorece la reproducibilidad, esencial en las técnicas de deposición avanzadas.

    CONSULTA
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    Titanium Silicon Target, TiSi Target
    Titanium Silicon Target, TiSi Target
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    ST11467 Blanco de titanio y silicio, blanco TiSi
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    Composición
    TiSi
    Forma
    Redondo, rectangular, personalizado
    Formulario
    Objetivo
    Pureza
    Ti+Si: ≥99%.
     
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensiones
    Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9 % 99,95 % 99,99 %
     
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    Dimensiones
    Diámetro: 10-400 mm, o a medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulario
    Blanco, Disco
     
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    Material
    90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza
    >=99.99%
    Densidad
    7,1 g/cm3

    FAQ

    ¿Qué parámetros del proceso de deposición deben tenerse en cuenta al utilizar este blanco?

    El proceso de sputtering con este blanco requiere un control cuidadoso de la densidad de potencia y de la presión de la cámara. Los ajustes de la potencia de RF o CC influyen en la uniformidad y la estequiometría de la película. El control de la temperatura del sustrato puede optimizar aún más la adherencia de la película.

    ¿Cómo se verifica la microestructura del objetivo?

    El blanco se somete a imágenes SEM y perfilometría láser para evaluar la uniformidad de la superficie y detectar posibles defectos. Estas comprobaciones ayudan a mantener la uniformidad durante el sputtering y a reducir la contaminación por partículas en la película depositada.

    ¿Se puede personalizar el cátodo para adaptarlo a los requisitos específicos del sistema de sputtering?

    Sí, existen opciones de personalización para el tamaño y las tolerancias de mecanizado. La adaptación de estos parámetros garantiza la compatibilidad con diversos sistemas de deposición y favorece la reproducibilidad del proceso. Para obtener información detallada sobre las opciones de personalización, póngase en contacto con nosotros.

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