ST11217 Blanco planar de siliciuro de titanio, blanco TiSi2

Blanco planar siliciuro de titanio, TiSi2 Descripción del blanco

El cátodo planar de siliciuro de titanio TiSi2 está diseñado para aplicaciones de sputtering en la deposición de películas finas. La composición controlada del cátodo reduce la generación de partículas y mejora las propiedades de adhesión de las películas depositadas, apoyando así los procesos de deposición de material de precisión.

Blanco planar de siliciuro de titanio, TiSi2 Características del blanco

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco planar de siliciuro de titanio, blanco TiSi2 Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como fuente de pulverización catódica en dispositivos semiconductores para lograr una deposición uniforme de película delgada aprovechando la estructura plana del cátodo.
- Aplicado como capa de contacto en circuitos integrados para conseguir características eléctricas consistentes minimizando las variaciones microestructurales.

2.Industrial
- Empleado como material de recubrimiento en la fabricación de sensores para mantener un espesor de película controlado mediante la erosión por pulverización catódica uniforme.
- Utilizado como fuente de deposición en procesos de tratamiento de superficies para garantizar unas propiedades fiables de la película en condiciones de plasma variables.

3.Optoelectrónica
- Utilizado como material de electrodo en componentes de pantallas para proporcionar una conductividad de película constante aprovechando el perfil de erosión uniforme del blanco.

Blanco planar de siliciuro de titanio, TiSi2 Embalaje del blanco

Los cátodos planares de siliciuro de titanio TiSi2 se envasan en bolsas selladas antiestáticas colocadas dentro de contenedores de espuma rígida para protegerlos de los golpes mecánicos y la contaminación. El embalaje incorpora barreras contra la humedad para evitar la oxidación de la superficie durante el transporte y el almacenamiento. Existen opciones personalizadas que incluyen envases sellados al vacío y etiquetados. Se recomienda almacenar en un entorno limpio, seco y con temperatura controlada.

Información adicional

El siliciuro de titanio es un compuesto intermetálico ampliamente utilizado en la fabricación de semiconductores debido a su baja resistividad y compatibilidad con sustratos de silicio. Su integración en cátodos para sputtering se basa en su capacidad para formar películas finas uniformes y adherentes con una composición controlada, mejorando así el rendimiento de la deposición en diversos procesos de fabricación de dispositivos.

Las técnicas avanzadas de caracterización de superficies, como la microscopía electrónica de barrido y la difracción de rayos X, son fundamentales para evaluar la microestructura del material. Estos métodos analíticos no sólo validan la calidad del producto, sino que también contribuyen a una optimización más eficaz del proceso en aplicaciones de deposición de películas finas.