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ST11217 Blanco planar de siliciuro de titanio, blanco TiSi2

Catálogo No. ST11217
Composición TiSi2
Pureza ≥99,9%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Rectangular
Dimensiones Personalizado

El cátodo planar de siliciuro de titanio TiSi2 es un cátodo para sputtering diseñado para aplicaciones de deposición de películas finas. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea rigurosos controles de proceso que incluyen microscopía electrónica de barrido y análisis de difracción de rayos X para supervisar la consistencia microestructural. El cátodo se fabrica con una composición controlada para minimizar los defectos y la liberación de partículas, garantizando una erosión uniforme del material en toda la superficie durante el sputtering.

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Titanium Silicide Planar Target, TiSi2 Target
Titanium Silicide Planar Target, TiSi2 Target
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Composición
TiSi2
Pureza
≥99,9%, o personalizado
Formulario
Objetivo
Forma
Rectangular
Dimensiones
Personalizado
 
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Pureza
99.9%
Número CAS
12031-66-2
Espesor
0,35-1 mm
Sinónimos
Oblea de tantalato de litio, oblea de LiTaO3
 
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Pureza
99.99%
Dimensiones
Personalizado
Orientación
(100), (110) y (111)
Sinónimos
Monocristal de tantalio, monocristal de Ta
 
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Dimensiones
20 x 20 x 0,5 mm, 10 x 10 x 0,5 mm, 5 x 5 x 0,5 mm
Material
KTaO₃
Orientación
<100>, <110>, <111>
Método de crecimiento
Método Czochralski

FAQ

¿Qué factores influyen en la uniformidad de la película cuando se utiliza un cátodo planar de siliciuro de titanio para sputtering?

La configuración plana y la microestructura controlada contribuyen a una erosión uniforme en toda la superficie del blanco. Esto minimiza la generación de partículas y garantiza una deposición uniforme de la película fina, siempre que las condiciones de sputtering estén bien reguladas.

¿Cómo beneficia la personalización de las dimensiones de los cátodos a las aplicaciones de sputtering?

Las dimensiones personalizadas permiten la integración con diversos sistemas de sputtering, facilitando configuraciones óptimas de densidad de potencia y refrigeración. Esta personalización ayuda a conseguir una deposición uniforme de la película y a ajustar los parámetros del proceso a los requisitos específicos del sistema.

¿Qué técnicas analíticas se utilizan durante el control de calidad de estos objetivos?

El control de calidad implica la evaluación de la morfología de la superficie mediante microscopía electrónica de barrido y microscopía de fuerza atómica. Estas técnicas verifican la integridad microestructural y garantizan unos defectos mínimos, que son fundamentales para mantener la consistencia de la deposición.

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