ST0113 Cátodos para sputtering de titanio y aluminio (Ti/Al)

Name: ST0113 Titanium Aluminum (Ti/Al) Sputtering Target
SKU: ST0113
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Catálogo No.	ST0113
Composición	Aleación Ti-Al (Ti:Al = 50:50 at% estándar; otras proporciones disponibles)
Pureza	≥99% (99,9% / 99,95% / 99,99% disponible)
Forma	Discos, placas o a medida
Diámetro	2", 3", 4", 5", 6" o personalizado
Espesor	0,25", 0,125" o personalizado
Tipo de bono	Cobre, o personalizado

Cátodos para sputtering de titanio-aluminio (TiAl) de Stanford Advanced Materials. Utilizados para depositar recubrimientos duros de TiAlN en herramientas de corte, recubrimientos decorativos en electrónica de consumo y películas funcionales para aplicaciones de semiconductores y aeroespaciales. Composición estándar: Ti:Al = 50:50 at% (punto de fusión ~1460°C, densidad ~4,0 g/cm³). Otras proporciones disponibles (70:30, 30:70, etc.). Discos estándar de 2" a 6", o tamaños personalizados. Adhesivo de indio disponible.

Productos relacionados: Cátodos para sputtering de titanio (Ti) | Cátodos para sputtering de aluminio (Al) | Cátodos para sputtering de aluminio cromado (CrAl)

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Titanium Aluminum (Ti/Al) Sputtering Target

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ST0113 Cátodos para sputtering de titanio y aluminio (Ti/Al)

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Composición

Aleación Ti-Al (Ti:Al = 50:50 at% estándar; otras proporciones disponibles)

Pureza

≥99% (99,9% / 99,95% / 99,99% disponible)

Forma

Discos, placas o a medida

Diámetro

2", 3", 4", 5", 6" o personalizado

Espesor

0,25", 0,125" o personalizado

Tipo de bono

Cobre, o personalizado

ST0047: Blancos y discos de pulverización de aleación de niobio y circonio

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Material

R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)

Dimensiones

Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm

Pureza

99,9 % 99,95 % 99,99 %

ST0056 Blancos de aleación de niobio y hafnio (NbHf)

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Dimensiones

Diámetro: 10-400 mm, o a medida

Material

Nb-10Hf

Formulario

Blanco, Disco

ST0334 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)

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Material

90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2

Pureza

>=99.99%

Densidad

7,1 g/cm3

FAQ

¿Cuál es la relación Ti:Al estándar para los revestimientos de herramientas de corte?

Ti:Al = 50:50 at% es el más común para revestimientos TiAlN. Esta proporción proporciona el mejor equilibrio entre dureza y resistencia a la oxidación. Otras relaciones (70:30, 30:70) están disponibles para aplicaciones específicas.

¿Necesito utilizar el sputtering reactivo para el TiAlN?

Sí. Introduzca gas nitrógeno durante el sputtering para formar TiAlN. Para películas metálicas de TiAl puro, utilice sólo argón.

Sí.

¿Necesitan adhesión los blancos TiAl?

Sí. La aleación TiAl es frágil. La unión a una placa de soporte de cobre mejora la gestión térmica y evita el agrietamiento durante la pulverización catódica.

¿Qué pureza necesito para las aplicaciones de revestimiento de herramientas?

99,9% es suficiente para la mayoría de herramientas de corte y revestimientos decorativos. Se recomienda un 99,95 % o más para aplicaciones aeroespaciales y de semiconductores.

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*Código de verificación

Número de catálogo	ST0113
Material	Aleación de titanio y aluminio (TiAl)
Composición estándar	Ti:Al = 50:50 al%.
Pureza	≥99% (99,9% / 99,95% / 99,99% disponible)
Color/Apariencia	Gris metálico
Punto de fusión	~1460°C
Densidad	3,7-4,3 g/cm³
Resistividad eléctrica	80-120 µΩ-cm
Método de pulverización	DC
Tipo de enlace	Indio, elastómero
Diámetros estándar	2", 3", 4", 6"
Espesor	0,125", 0,250" o personalizado
Embalaje	Sellado al vacío

Parámetros	Especificación
Material	Titanio Aluminio
Símbolo	Ti/Al (TiAl)
Color/Apariencia	Acabado metálico
Punto de fusión	N/A
Densidad	N/A
Pulverización catódica	N/A
Tipo de unión	Indio, Elastómero
Tamaños disponibles	A medida

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

ST0113 Cátodos para sputtering de titanio y aluminio (Ti/Al)

Descripción del cátodo para sputtering de titanio-aluminio (Ti/Al)

Especificación

Aplicaciones del cátodo para sputtering de titanio y aluminio (Ti/Al)

Embalaje de cátodos para sputtering de titanio-aluminio (Ti/Al)

Especificación

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¿Necesito utilizar el sputtering reactivo para el TiAlN?

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