Descripción del cátodo de titanio (Ti) para sputtering
El cátodo de titanio (Ti) para sputtering está diseñado para ofrecer un rendimiento superior en aplicaciones industriales avanzadas de sputtering. Fabricado bajo estrictas normas de calidad, este cátodo garantiza una excelente consistencia, fiabilidad y eficiencia en los procesos de deposición de películas finas.
Diseñado pensando en la versatilidad, el cátodo de titanio está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida para satisfacer los requisitos específicos del sistema. Ofrece un rendimiento excepcional en entornos en los que la contaminación mínima y la alta pureza son fundamentales, lo que lo convierte en la opción ideal para la fabricación de semiconductores, revestimientos ópticos y otras aplicaciones de alta precisión.
Aplicaciones de cátodos para sputtering de titanio (Ti)
- Fabricación de semiconductores: Garantiza la deposición uniforme de película fina, crítica para la microelectrónica.
- Recubrimientos superficiales: Mejora la resistencia al desgaste y la protección contra la corrosión de diversos sustratos.
- Recubrimientos ópticos: Ideal para la producción de filtros de interferencia y espejos de alta reflectancia.
- Investigación y desarrollo avanzados: Utilizado en experimentos de vanguardia y desarrollo de prototipos en los que la pureza del material es primordial.
Embalaje de cátodos de titanio (Ti) para sputtering
Nuestros cátodos de titanio (Ti) para sputtering se envasan cuidadosamente al vacío para mantener la integridad del producto y evitar la contaminación durante el almacenamiento y el transporte. Las opciones de embalaje incluyen 5 kg por bolsa o 25 kg por bidón, con posibilidad de personalización para adaptarse a sus requisitos específicos.
Preguntas más frecuentes
P: ¿Qué industrias suelen utilizar cátodos de titanio (Ti) para sputtering?
R: Los cátodos para sputtering de titanio (Ti) se utilizan ampliamente en la fabricación de semiconductores, el revestimiento óptico, la industria aeroespacial y diversas aplicaciones de investigación avanzada.
P: ¿Qué procesos de sputtering son compatibles con este cátodo?
R: Este cátodo está optimizado para procesos de sputtering DC, aunque algunas aplicaciones de sputtering RF también pueden ser compatibles dependiendo de la configuración del sistema.
P: ¿Pueden personalizarse las formas y tamaños de los cátodos para sputtering?
R: Sí, nuestros cátodos para sputtering de titanio (Ti) están disponibles en forma de disco estándar o pueden fabricarse a medida para satisfacer requisitos específicos del sistema.
P: ¿Cuál es el grado de pureza de los cátodos para sputtering de titanio (Ti)?
R: El cátodo tiene una pureza de ≥99%, lo que garantiza un alto rendimiento y una contaminación mínima durante los procesos de deposición.
P: ¿Cómo debe almacenarse el cátodo para sputtering de titanio (Ti) para mantener la calidad?
R: Debe almacenarse en un entorno limpio y seco dentro de su embalaje sellado al vacío para evitar la contaminación y garantizar un rendimiento óptimo.
