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ST6586 Blanco de tántalo y wolframio (blanco TaW)

Catálogo No. ST6586
Material Ta, W
Pureza 99.95%
Forma Disco planar

El Tantalum Tungsten Target (TaW Target) de Stanford Advanced Materials es un material para sputtering duradero y de alto rendimiento que combina la excelente resistencia a la corrosión del tantalio con el alto punto de fusión del tungsteno, ideal para la deposición avanzada de película fina en aplicaciones de alta temperatura y entornos difíciles.

Productos relacionados: Cátodos para sputtering de tántalo, Ta, Cátodos para sputtering de tántalo-aluminio, Ta/Al, Cátodos para sputtering de tungsteno, W, Cátodos para sputtering de níquel-tungsteno, Ni/W

CONSULTA
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Descripción
Especificación
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Material
Ta, W
Pureza
99.95%
Forma
Disco planar
 
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Material
R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
Dimensiones
Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm
Pureza
99,9 % 99,95 % 99,99 %
 
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Dimensiones
Diámetro: 10-400 mm, o a medida
Material
Nb-10Hf
Formulario
Blanco, Disco
 
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Material
90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
Pureza
>=99.99%
Densidad
7,1 g/cm3

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País*

España

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Otros
    • Other
    Thickness

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
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    • No
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