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ST0403 Cátodos planares de cobre (Cu) para sputtering

Catálogo No. ST0403
Composición Cu
Número CAS 7440-50-8
Pureza ≥99%
Forma Planar o a medida

El cátodo para sputtering de cobre (Cu) planar es ofrecido con orgullo por Stanford Advanced Materials, una marca reconocida por su dedicación a la innovación y calidad superior en materiales avanzados. Con décadas de experiencia, Stanford Advanced Materials ofrece continuamente soluciones de alto rendimiento que satisfacen las rigurosas demandas de las aplicaciones industriales modernas.

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Planar Copper (Cu) Sputtering Target
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Descripción
Especificación
SDS
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Composición
Cu
Número CAS
7440-50-8
Pureza
≥99%
Forma
Planar o a medida
 
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Material
R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
Dimensiones
Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm
Pureza
99,9 % 99,95 % 99,99 %
 
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Dimensiones
Diámetro: 10-400 mm, o a medida
Material
Nb-10Hf
Formulario
Blanco, Disco
 
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Material
90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
Pureza
>=99.99%
Densidad
7,1 g/cm3

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País*

España

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Otros
    • Other
    Thickness

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
    Bonding

    Sí

    • Sí
    • No
    • Other

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