ST0322 Blanco para sputtering de telururo de germanio (GeTe)

Descripción del cátodo para sputtering de teluro de germanio (GeTe)

El cátodo para sputtering de teluro de germanio (GeTe) está meticulosamente diseñado para aplicaciones de deposición de película fina de alta precisión. Fabricado con estrictos controles de calidad y avanzadas técnicas de procesamiento, este cátodo garantiza una excelente uniformidad, estabilidad y rendimiento en entornos de sputtering exigentes. Sus características físicas optimizadas, que incluyen un punto de fusión de 725℃ y una densidad de 6,14 g/cm³, permiten un crecimiento fiable y reproducible de la película para aplicaciones de semiconductores y optoelectrónica. La versatilidad en las opciones de unión, como el indio y el elastómero, mejora aún más su adaptabilidad para sistemas de sputtering especializados.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de telururo de germanio (GeTe)

- Fabricación de semiconductores: Ideal para crear películas finas en dispositivos de memoria, transistores y circuitos integrados.
- Dispositivos optoelectrónicos: Utilizados en la fabricación de fotodetectores, LED y células solares.
- Almacenamiento de datos: Esencial para aplicaciones de memoria de cambio de fase en las que un rendimiento constante es clave.
- Investigación y desarrollo: Ampliamente utilizado en laboratorios para explorar nuevas tecnologías de películas finas y procesos de deposición.
- Aplicaciones industriales personalizadas: Adecuado para sistemas de sputtering especializados que requieren cátodos de gran pureza y personalizables.

Embalaje de cátodos para sputtering de teluro de germanio (GeTe)

Nuestros cátodos para sputtering de telururo de germanio (GeTe) se embalan con sumo cuidado para mantener su calidad y rendimiento prístinos. Cada cátodo se embala de forma segura en materiales de embalaje protectores y antiestáticos para evitar cualquier contaminación o daño durante el transporte y el almacenamiento. Existen opciones de embalaje personalizadas para satisfacer los requisitos específicos de su sistema de sputtering.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué métodos de sputtering son compatibles con el cátodo para sputtering GeTe?
R: El cátodo es compatible con las técnicas de sputtering RF, RF-R y DC, lo que garantiza la flexibilidad para diversos sistemas de deposición.

P: ¿Cómo beneficia la alta pureza del GeTe a la deposición de películas finas?
R: La alta pureza minimiza las impurezas y los defectos en la película depositada, lo que se traduce en unas propiedades eléctricas y ópticas superiores, críticas para las aplicaciones de semiconductores y optoelectrónica.

P: ¿Existen opciones de soluciones personalizadas para este cátodo para sputtering?
R: Sí, nuestro cátodo para sputtering de telururo de germanio puede fabricarse a medida en varias formas y tamaños para satisfacer las necesidades específicas de su sistema de sputtering.

P: ¿Qué medidas se toman durante el embalaje para garantizar la calidad del producto?
R: Los cátodos se envasan en materiales antiestáticos sellados al vacío para protegerlos contra la contaminación y los daños físicos durante el transporte y el almacenamiento.

P: ¿Pueden utilizarse estos cátodos en procesos de sputtering de alta temperatura?
R: Por supuesto. Con un punto de fusión de 725℃ y sólidas propiedades físicas, el cátodo es idóneo para aplicaciones de sputtering a alta temperatura.