Descatalogado (Descatalogado) ST0207 Cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria (ZrO2/Y2O3)

Cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria (ZrO2/Y2O3) Descripción

Nuestro cátodo para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria (ZrO₂/Y₂O₃) está diseñado para procesos de sputtering de alta eficiencia en aplicaciones industriales de precisión. Fabricado bajo estrictos controles de calidad, este cátodo ofrece una estabilidad y un rendimiento excepcionales incluso en condiciones de alta temperatura. La integración de itria en el óxido de circonio mejora su estabilidad térmica y durabilidad, garantizando una mayor vida útil. Ideal para aplicaciones que exigen una deposición de material uniforme y fiable, este producto satisface las necesidades cambiantes de la fabricación de semiconductores, los revestimientos avanzados y la investigación de materiales.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria (ZrO2/Y2O3)

- Fabricación de semiconductores: Fundamental para depositar películas finas uniformes.

- Recubrimientos avanzados: Proporciona una mayor durabilidad para recubrimientos resistentes al desgaste y térmicamente estables.

- Investigacióny desarrollo: Adecuado para estudios de deposición precisos y a alta temperatura.

- Procesos industrialesde sputtering: Garantiza un rendimiento fiable en entornos de producción a gran escala.

Embalaje del cátodo para sputtering de circonio estabilizado con itria (ZrO2/Y2O3)

Nuestros cátodos para sputtering se embalan meticulosamente para garantizar la conservación de la calidad durante el almacenamiento y el transporte.
- Envasado: Sellado al vacío para mantener la integridad del producto.
- Tamaños personalizados: Disponibles en formatos personalizados para adaptarse a los requisitos de aplicaciones específicas.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué hace que el cátodo para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria sea ideal para aplicaciones de alta temperatura?
R: La integración de itria en el óxido de circonio estabiliza la estructura, mejorando su estabilidad térmica y permitiéndole mantener su rendimiento en condiciones extremas.

P: ¿Cómo se garantiza la pureza del cátodo?
R: El proceso de fabricación se lleva a cabo bajo estrictas medidas de control de calidad para alcanzar un nivel de pureza de ≥99%, lo que garantiza un rendimiento óptimo en aplicaciones críticas.

P: ¿Se puede personalizar la forma del cátodo para sputtering?
R: Sí, el cátodo está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida para satisfacer requisitos específicos de diseño y aplicación.

P: ¿Qué industrias son las que más se benefician de este cátodo para sputtering?
R: Industrias como la fabricación de semiconductores, las tecnologías avanzadas de revestimiento y la investigación de materiales a alta temperatura se benefician considerablemente de este producto.

P: ¿Qué ventajas ofrece el compuesto de óxido de circonio e itrio en comparación con el óxido de circonio puro?
R: La adición de itria no sólo estabiliza la estructura de la zirconia, sino que también mejora su resistencia al choque térmico y aumenta su durabilidad, haciéndola más fiable durante los procesos intensivos de sputtering.