Descatalogado (Descatalogado) ST0015 Blanco para sputtering de gadolinio (Gd)

Descripción del cátodo para sputtering de gadolinio (Gd)

Los cátodos para sputtering de gadolinio (Gd) están diseñados para aplicaciones industriales avanzadas y ofrecen un rendimiento excepcional en procesos de deposición de películas finas. Fabricado con Gd de alta pureza (≥99%), el cátodo está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida según las especificaciones del cliente. Con un punto de fusión de 1312℃ y una densidad de 7,9 g/cm³, está optimizado para sputtering DC, lo que lo hace ideal para aplicaciones electrónicas, ópticas y de investigación. Su calidad y fiabilidad constantes lo convierten en la opción preferida para producir revestimientos y componentes microelectrónicos de alto rendimiento.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de gadolinio (Gd)

- Electrónica: Ideal para la fabricación de circuitos integrados y microelectrónica, donde la estabilidad del material es crítica.
- Tecnología de pantallas: Utilizado en la fabricación de revestimientos avanzados para pantallas y filtros ópticos.
- Investigación y desarrollo: Perfecto para la deposición experimental de películas finas y la investigación de materiales.
- Recubrimientos superficiales: Adecuado para aplicaciones que requieren precisión y uniformidad en la deposición por pulverización catódica.
- Procesos industriales especializados: Aplicable en sputtering industrial de alto rendimiento para sensores y dispositivos novedosos.

Embalaje de cátodos para sputtering de gadolinio (Gd)

Nuestro cátodo para sputtering de gadolinio (Gd) se embala cuidadosamente para garantizar que su alta pureza y rendimiento permanezcan intactos durante el transporte. El cátodo se sella al vacío en opciones de embalaje personalizadas según los requisitos del cliente, proporcionando una entrega segura y fiable.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuál es el nivel de pureza del cátodo para sputtering de gadolinio?
R: El cátodo se fabrica con un nivel de pureza de ≥99%.

P: ¿Qué método de sputtering se recomienda para utilizar este cátodo?
R: Este cátodo está diseñado principalmente para aplicaciones de sputtering DC.

P: ¿Está disponible el cátodo en diferentes formas o tamaños?
R: Sí, está disponible en formas de disco estándar y también puede fabricarse a medida según los requisitos específicos del cliente.

P: ¿Cuál es el punto de fusión del cátodo y por qué es importante?
R: El punto de fusión es de 1312℃, lo que garantiza la estabilidad del material en procesos de sputtering a alta temperatura.

P: ¿Cómo se embala el cátodo para sputtering de gadolinio para su envío?
R: Se sella al vacío y se embala de forma segura, con opciones de embalaje personalizado para satisfacer necesidades de entrega específicas.