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  • ST11478 Blanco para sputtering de carbonato de litio Blanco Li2CO3

    • ST11478 Blanco para sputtering de carbonato de litio Blanco Li2CO3

    Catálogo No. ST11478
    Composición Li2CO3
    Forma Redondo, rectangular, personalizado
    Formulario Objetivo
    Pureza ≥99%

    El cátodo para sputtering de carbonato de litio Li2CO3 se produce utilizando carbonato de litio de gran pureza con densidad controlada y defectos mínimos para lograr un rendimiento consistente del sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea rigurosos métodos internos de caracterización, como los análisis XRD y SEM, para controlar la uniformidad microestructural y la calidad de la superficie. Este minucioso proceso de inspección minimiza las impurezas y garantiza la consistencia del procesamiento para la deposición precisa de películas finas en aplicaciones electrónicas y cerámicas.

    CONSULTA
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    Lithium Carbonate Sputtering Target Li2CO3 Target
    Lithium Carbonate Sputtering Target Li2CO3 Target
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    ST11478 Blanco para sputtering de carbonato de litio Blanco Li2CO3
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    Composición
    Li2CO3
    Forma
    Redondo, rectangular, personalizado
    Formulario
    Objetivo
    Pureza
    ≥99%
     
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensiones
    Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9 % 99,95 % 99,99 %
     
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    Diámetro: 10-400 mm, o a medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulario
    Blanco, Disco
     
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    Material
    90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza
    >=99.99%
    Densidad
    7,1 g/cm3

    FAQ

    ¿Cómo afecta la pureza del Li2CO3 al proceso de sputtering?

    El Li2CO3 de gran pureza minimiza los contaminantes durante la deposición, lo que ayuda a conseguir un grosor de película uniforme y propiedades eléctricas controladas. Esto es esencial para aplicaciones en las que la consistencia del rendimiento de la película es crítica.

    ¿Qué parámetros operativos deben controlarse cuando se utiliza un cátodo para sputtering de Li2CO3?

    Es importante controlar la potencia del sputtering, la presión de la cámara y la temperatura del sustrato. Estos parámetros influyen en la adherencia de la película, la uniformidad y la eficacia general de la deposición. El ajuste de estas condiciones puede mejorar la calidad de la película.

    ¿Puede utilizarse el blanco para depositar películas finas en la fabricación de semiconductores?

    Sí, el blanco es apropiado para la deposición de películas finas en aplicaciones de semiconductores. Su composición y estructura controladas ayudan a producir películas con propiedades eléctricas y mecánicas reproducibles. Para ajustes específicos del proceso, se aconseja la consulta técnica.

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      Purity

      99.9%

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