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  • ST11470 Blanco de níquel cobalto hierro para sputtering planar (NiCoFe)

    • ST11470 Blanco de níquel cobalto hierro para sputtering planar (NiCoFe)

    Catálogo No. ST11470
    Composición NiCoFe
    Forma Rectangular
    Formulario Objetivo
    Pureza Ni+Co+Fe: ≥99%.

    Los cátodos planares de níquel cobalto hierro, NiCoFe, se fabrican utilizando una composición de aleación controlada adecuada para los procesos de deposición por sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) utiliza técnicas avanzadas de análisis de superficies, como la difracción de rayos X y la microscopía electrónica de barrido, para controlar la uniformidad y planitud del material durante todo el proceso de fabricación. Este enfoque minimiza los defectos mediante el cumplimiento de estrictos protocolos de inspección durante el proceso, garantizando así una superficie de blanco controlada y uniforme para aplicaciones de deposición de películas.

    CONSULTA
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    Nickel Cobalt Iron Planar Target, NiCoFe Target
    Nickel Cobalt Iron Planar Target, NiCoFe Target
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    ST11470 Blanco de níquel cobalto hierro para sputtering planar (NiCoFe)
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    Composición
    NiCoFe
    Forma
    Rectangular
    Formulario
    Objetivo
    Pureza
    Ni+Co+Fe: ≥99%.
     
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    Material
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    Dimensiones
    Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9 % 99,95 % 99,99 %
     
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    Blanco, Disco
     
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    Material
    90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza
    >=99.99%
    Densidad
    7,1 g/cm3

    FAQ

    ¿Qué parámetros de deposición se recomiendan cuando se utiliza este blanco de NiCoFe?

    Ajuste la potencia del proceso y el flujo de gas para adaptarlos al sistema de sputtering. Una mayor densidad de potencia puede acelerar la velocidad de deposición, mientras que una presión de argón controlada ayuda a mantener una película uniforme. Póngase en contacto con nosotros para obtener directrices de proceso personalizadas.

    ¿Cómo afecta la composición de la aleación de NiCoFe a la uniformidad de la película?

    La composición controlada de NiCoFe garantiza un bombardeo iónico uniforme durante la deposición. Esto ayuda a producir películas con propiedades microestructurales consistentes, reduciendo los riesgos de contaminación y mejorando la homogeneidad de la película.

    ¿Es compatible el cátodo con los equipos estándar de sputtering?

    Sí, la geometría plana y las dimensiones estandarizadas del blanco de NiCoFe garantizan la compatibilidad con las configuraciones típicas de los sistemas de sputtering. Pueden ser necesarios ajustes del proceso para optimizar los resultados de la deposición.

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      Purity

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