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ST11218 Blanco rotativo de vanadio, blanco V

Catálogo No. ST11218
Composición V
Pureza ≥99%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Tubular
Dimensiones Personalizado

El blanco rotativo de vanadio, V Target, es un blanco para sputtering fabricado a partir de vanadio de alta pureza utilizando un diseño rotativo para promover la erosión uniforme del blanco. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea técnicas detalladas de caracterización de materiales, como la DRX y el análisis SEM, para controlar la consistencia microestructural. La producción de SAM incorpora un proceso controlado de fundición y colada con verificación en tiempo real de la composición de la aleación para gestionar la consistencia de los lotes y el rendimiento en la deposición de películas finas.

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FAQ

¿Cómo afecta el diseño rotativo a la uniformidad de la erosión en los procesos de sputtering?

El diseño giratorio facilita una erosión uniforme en toda la superficie del blanco, minimizando el desgaste localizado. Esto se traduce en una velocidad de deposición constante, que es vital para mantener uniformes las propiedades de las películas finas en los sustratos de los sistemas de sputtering industrial. Póngase en contacto con nosotros para obtener más detalles técnicos.

¿Qué procedimientos de limpieza se recomiendan para mantener la integridad de la superficie del objetivo?

Es aconsejable utilizar métodos de limpieza no abrasivos combinados con una limpieza a base de disolventes para eliminar los residuos sin alterar las propiedades de la superficie del cátodo. Estas prácticas de mantenimiento ayudan a preservar el rendimiento del cátodo durante operaciones de sputtering prolongadas. Póngase en contacto con nosotros para obtener información detallada.

¿Qué medidas de control de calidad verifican la composición del vanadio durante la fabricación?

El proceso de fabricación incorpora espectroscopia cuantitativa y análisis SEM para el examen microestructural. Estas medidas garantizan que la composición de la aleación cumple los criterios definidos, lo que es fundamental para lograr el rendimiento previsto del sputtering. Póngase en contacto con nosotros para conocer los protocolos completos de control de calidad.

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