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AC5591 Mandril electrostático (Al2O3, SiO2, MgO)

Catálogo No. AC5591
Dimensiones Dia. 300 mm, etc.
Densidad 3,77 g/cm3
Composición 96%

Elmandril electr ostático es un componente crucial utilizado en los equipos de fabricación de semiconductores, especialmente en los procesos de grabado por plasma, deposición química en fase vapor (CVD) y deposición física en fase vapor (PVD). Stanford Advanced Materials (SAM) cuenta con una amplia experiencia en la fabricación y suministro de mandriles electrostáticos de alta calidad.

Productos relacionados: Plato electrostático ( Al2O3 , AlN, Zafiro), Plato electrostático (Al2O3)

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Electrostatic Chuck (Al2O3, SiO2, MgO)
Electrostatic Chuck (Al2O3, SiO2, MgO)
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Dimensiones
Dia. 300 mm, etc.
Densidad
3,77 g/cm3
Composición
96%
 
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Dimensiones
Personalizado
Material
Al₂O₃
Pureza
≥95 %, o a medida
Densidad
3,7–3,9 g/cm³
Máx. Temperatura de trabajo
Hasta 1650 °C (dependiendo de la pureza)
Diámetro
1 – 100 mm (a medida)
Sinónimos
Tubo de Al₂O₃, tubo de óxido de aluminio
 
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Material
AlN, nitruro de aluminio
Densidad
3,26 g/cm³
Apariencia
Blanco, gris claro
Forma
Sustrato
Punto de fusión
>2200 °C
Sinónimos
Sustratos de nitruro de aluminio, sustratos de AlN
 
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Pureza
≥95 %, o a medida
Densidad
3,7-3,9 g/cm³
Punto de fusión
2.072 °C
Dureza
Mohs 9
Número CAS
1344-28-1
Almacenamiento
Resistente a la humedad

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