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  • VD0807: Pastillas de siliciuro de titanio (TiSi₂) para evaporación

    • VD0807: Pastillas de siliciuro de titanio (TiSi₂) para evaporación

    Catálogo No. VD0807
    Material Siliciuro de titanio (TiSi₂)
    Pureza 99,5 %
    Forma En polvo / Granulado / A medida
    Sinónimos Pellets de TiSi₂, pellets de siliciuro de titanio

    Como fabricante y proveedor distinguido, Stanford Advanced Materials (SAM) se enorgullece de ofrecer materiales de evaporación de siliciuro de titanio de gran pureza en diversas formas, incluidas pastillas, gránulos, varillas y alambres. Nuestro compromiso se extiende a la personalización de formas y cantidades para ajustarnos a las necesidades específicas de cada aplicación.

    Productos relacionados: Materiales de evaporación de níquel titanio (Ni/Ti), Materiales de evaporación de titanio (Ti), Materiales de evaporación de aluminio titanio (Al/Ti), Materiales de evaporación de cromo titanio (Cr/Ti), Materiales de evaporación de cobalto titanio (Co/Ti)

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    VD0807: Pastillas de siliciuro de titanio (TiSi₂) para evaporación
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    Material
    Siliciuro de titanio (TiSi₂)
    Pureza
    99,5 %
    Forma
    En polvo / Granulado / A medida
    Sinónimos
    Pellets de TiSi₂, pellets de siliciuro de titanio
     
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    Pureza
    99,5 %
    Forma
    En polvo / En gránulos / A medida
    Punto de fusión
    1950 °C
    Densidad
    5,53-5,7 g/cm³
    Sinónimos
    Pastillas de NbSi₂, pastillas de siliciuro de niobio

    FAQ

    ¿Qué métodos de deposición se pueden utilizar con los materiales de evaporación de TiSi₂?

    Los materiales de partida de TiSi₂ pueden utilizarse en la evaporación por haz de electrones y otros procesos de PVD, dependiendo del equipo y de la configuración de la fuente. También se han estudiado las películas de TiSi₂ mediante técnicas de coevaporación.

    ¿Para qué se utilizan los materiales de evaporación de TiSi₂?

    Entre sus aplicaciones típicas se incluyen los dispositivos semiconductores, la microelectrónica, la investigación sobre películas finas, los contactos eléctricos, las interconexiones y otros recubrimientos electrónicos avanzados. El TiSi₂ se ha estudiado tradicionalmente para su uso en contactos e interconexiones debido a su baja resistividad y a su estabilidad térmica.

    ¿Por qué se utiliza el TiSi₂ en aplicaciones de semiconductores?

    El TiSi₂ presenta una resistividad eléctrica relativamente baja, una buena estabilidad térmica y es compatible con los procesos de fabricación basados en silicio, lo que lo hace útil para la creación de capas de siliciuro conductoras en dispositivos semiconductores.

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