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VD0718 Materiales de evaporación de óxido de níquel, NiO

Catálogo No. VD0718
Material Óxido de níquel (NiO)
Pureza 99.9%
Forma Polvo/ Granulado/ A medida
MSDS / SDS

Los materiales de evaporación de óxido de níquel (NiO) suministrados por Stanford Advanced Materials (SAM) son fundamentales en diversas aplicaciones de deposición de películas finas. Estos materiales se utilizan para evaporar y depositar capas de óxido de níquel sobre sustratos, creando películas con propiedades eléctricas, ópticas y magnéticas específicas. Estas películas son cruciales en la fabricación de sensores avanzados, catalizadores, y dispositivos de almacenamiento de energía, donde la precisión y la pureza son esenciales.

Productos relacionados: Materiales de evaporación de níquel (Ni), Materiales de evaporación de aluminio y níquel (Al/Ni)

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Descripción
Especificación
SDS
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Material
Óxido de níquel (NiO)
Pureza
99.9%
Forma
Polvo/ Granulado/ A medida
 
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Dimensiones
Diámetro 70-195 mm Longitud <=1600 mm
Material
R05200 R05400
Número CAS
7440-25-7
Estándar
ASTM B364-92
Pureza
>=99,9% o 99,95%.
 
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Material
R05200 R05400
Estándar
ASTM B708-98
Pureza
≥99,9% o 99,95%.
Sinónimos
Lámina de tantalio, cinta Ta
 
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Estándar
ASTM B708
Dimensiones
Espesor 0,07-10, Anchura 30-1000, Longitud 30-3000
Material
R05200, R05400
Pureza
≥99,9% o 99,95%.
Formulario
Hoja/Placa
Sinónimos
Chapa de tántalo, placa de Ta

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