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VD0653 Materiales de evaporación de titanio y níquel (Ti/Ni)

Catálogo No. VD0653
Material Titanio Níquel (Ti/Ni)
Pureza 99.9% ~ 99.99%
Forma Polvo/ Granulado/ A medida

Los materiales de evaporación detitanio y níquel (Ti/Ni ) proporcionados por Stanford Advanced Materials son sustancias aleadas utilizadas en procesos de deposición física de vapor, caracterizadas por su mezcla de elementos de titanio y níquel, adecuadas para revestimientos de película fina en diversas aplicaciones electrónicas, ópticas e industriales.

Productos relacionados:Materiales de evaporación deníquel-titanio (Ni/Ti), Materiales de evaporación de titanio (Ti), Materiales de evaporación de aluminio-titanio (Al/Ti), Materiales de evaporación de cromo-titanio (Cr/Ti), Materiales de evaporación de cobalto-titanio (Co/Ti)

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Descripción
Especificación
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Material
Titanio Níquel (Ti/Ni)
Pureza
99.9% ~ 99.99%
Forma
Polvo/ Granulado/ A medida
 
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Dimensiones
Diámetro 70-195 mm Longitud <=1600 mm
Material
R05200 R05400
Número CAS
7440-25-7
Estándar
ASTM B364-92
Pureza
>=99,9% o 99,95%.
 
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Material
R05200 R05400
Estándar
ASTM B708-98
Pureza
≥99,9% o 99,95%.
Sinónimos
Lámina de tantalio, cinta Ta
 
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Estándar
ASTM B708
Dimensiones
Espesor 0,07-10, Anchura 30-1000, Longitud 30-3000
Material
R05200, R05400
Pureza
≥99,9% o 99,95%.
Formulario
Hoja/Placa
Sinónimos
Chapa de tántalo, placa de Ta

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