ST0255 Cátodos para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)

Descripción del cátodo para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)

El cátodo para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3) es un material de alto rendimiento desarrollado para la deposición de películas finas de precisión. Fabricado mediante técnicas de procesamiento avanzadas, presenta una pureza de ≥99% y ofrece formas personalizables para satisfacer diversos requisitos industriales. Su excelente estabilidad térmica y alto punto de fusión lo hacen adecuado para su uso en la fabricación de semiconductores, revestimientos ópticos y otras aplicaciones de alta tecnología, garantizando tanto la durabilidad como un rendimiento constante en condiciones rigurosas.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)

- Industria de semiconductores: Ideal para depositar películas finas en circuitos integrados y otros componentes semiconductores.
- Recubrimientos ópticos: Utilizados en la producción de dispositivos ópticos y lentes de alta calidad.
- Células solares: Mejora la eficiencia de las células fotovoltaicas mediante la deposición precisa de películas finas.
- Tecnología de pantallas: Esencial en la fabricación de paneles de visualización avanzados.
- Investigación y desarrollo: Útil en configuraciones experimentales que requieren cátodos para sputtering de gran pureza.

Embalaje de cátodos para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)

Nuestros cátodos para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3) se embalan cuidadosamente para mantener su alta calidad y pureza. Se suministra en envases sellados al vacío para protegerlo de la contaminación y garantizar la estabilidad del producto durante el almacenamiento y el transporte. Si lo desea, podemos personalizar el embalaje.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Para qué se utiliza el cátodo para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)?
R: Se utiliza principalmente en procesos de sputtering para la deposición de películas finas en las industrias de fabricación de semiconductores, óptica y pantallas.

P: ¿Cómo se fabrica el cátodo para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)?
R: Se produce mediante técnicas de fabricación avanzadas que garantizan una pureza de ≥99% y una sólida estabilidad térmica.

P: ¿Se puede personalizar el tamaño del cátodo para sputtering de fluoruro de titanio (TiF3)?
R: Sí, los tamaños disponibles son totalmente personalizables para satisfacer los requisitos específicos de la aplicación.

P: ¿Cuáles son las principales propiedades térmicas de este cátodo para sputtering?
R: Presenta un alto punto de fusión de 1130℃ y una densidad de 3,13 g/cm³, lo que lo hace ideal para aplicaciones de alta temperatura.

P: ¿Existen procedimientos específicos de manipulación o seguridad para este producto?
R: Deben seguirse los protocolos de seguridad estándar, incluido el uso del equipo de protección personal adecuado y el cumplimiento de las directrices sobre datos de seguridad de los materiales.