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  • ST11177 Blanco rotativo de cobalto, Co blanco

    • ST11177 Blanco rotativo de cobalto, Co blanco

    Catálogo No. ST11177
    Composición Co
    Pureza ≥99,99%, o personalizado
    Formulario Objetivo
    Forma Tubular
    Dimensiones Personalizado

    Cobalt Rotary Target, Co Target es un blanco para sputtering fabricado a partir de cobalto para procesos de deposición física de vapor. Stanford Advanced Materials (SAM) aplica estrictos controles de calidad mediante microscopía electrónica y métodos de análisis espectral para confirmar la pureza del material y la consistencia de la microestructura. SAM utiliza pruebas de lotes repetibles e instrumentación calibrada, garantizando que cada cátodo cumpla los criterios definidos de composición y rendimiento específicos de las aplicaciones de sputtering.

    CONSULTA
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    Cobalt Rotary Target, Co Target
    Cobalt Rotary Target, Co Target
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    ST11177 Blanco rotativo de cobalto, Co blanco
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    Composición
    Co
    Pureza
    ≥99,99%, o personalizado
    Formulario
    Objetivo
    Forma
    Tubular
    Dimensiones
    Personalizado
     
    NN0247 Nano Cobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Fórmula química
    Co
    APS
    50-300 nm
    Formulario
    Pólvora negra
    Pureza
    99.9%
     
    CP0248 Microcobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Fórmula química
    Co
    Formulario
    Pólvora negra
    Pureza
    ≥99,9 %
    Tamaño de las partículas
    - Malla de 200, malla de 325 o a medida
    Sinónimos
    Polvo de cobalto microfino, polvo de Co de micras
     
    CT0985 Lámina de cobalto (Co Foil)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Densidad aparente
    8.71 g/cm3
    Punto de fusión
    1768.15 K
    Espesor
    >=0,03 mm
    Pureza
    99.98%

    FAQ

    ¿Cómo influye la composición del cobalto en el comportamiento del sputtering en los procesos de deposición?

    La composición del cobalto afecta a la velocidad de erosión y a la uniformidad durante el sputtering. Una composición elemental controlada garantiza una erosión predecible, esencial para la deposición uniforme de películas finas en la fabricación de semiconductores. Para obtener directrices de procesamiento detalladas, póngase en contacto con nosotros.

    ¿Qué medidas se toman para controlar la microestructura del blanco rotativo durante la producción?

    El proceso de producción incluye tratamientos térmicos calibrados e inspecciones posteriores mediante microscopía electrónica de barrido. Estos pasos minimizan las inconsistencias microestructurales, garantizando que la uniformidad de la capa y las tasas de deposición cumplan los requisitos específicos de la aplicación.

    ¿Pueden adaptarse las dimensiones de los objetivos a los requisitos específicos de los equipos?

    Sí, las dimensiones se ofrecen como opciones personalizadas. Los clientes pueden especificar los tamaños necesarios para garantizar la compatibilidad con sus equipos de deposición. Si desea más información sobre la personalización de dimensiones, póngase en contacto con nosotros.

    ÚLTIMAS RECOMENDACIONES

    sc/1749821230-NN0247.jpg
    NN0247 Nano Cobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    Micro Cobalt Powder
    CP0248 Microcobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    CT0985 Cobalt Foil (Co Foil)
    CT0985 Lámina de cobalto (Co Foil)
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    Cobalt Wire (Co Wire)
    CT0986 Alambre de cobalto (Co Wire)
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    CT0988.jpg
    CT0988 Hoja de cobalto (Hoja de Co)
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    Cobalt Powder for Diamond Tools
    DP2774 Cobalto Co Polvo para herramientas diamantadas
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    Spherical Cobalt Powder
    CO4308 Cobalto esférico Co Polvo
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    (Discontinued) Cobalt Honeycomb
    CO6124 Cobalt Honeycomb
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