ST13646 Cátodos para sputtering de aleación de cobalto y tántalo, cátodos CoTa

Name: ST13646 Cobalt Tantalum Alloy Sputtering Target, CoTa Target
SKU: ST13646
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Catálogo No.	ST13646
Material	CoTa
Composición	Personalizado
Formulario	Objetivo

Los cátodos para sputtering de aleación de cobalto-tántalo, CoTa Target, se fabrican a partir de una composición controlada de aleación de cobalto-tántalo para procesos de deposición por sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea rigurosos análisis de pureza del material y técnicas de mecanizado de precisión para mantener estrictas tolerancias de composición y calidad de acabado superficial. El proceso de fabricación incluye una inspección microestructural detallada y una verificación dimensional para garantizar que cada blanco cumple los requisitos técnicos de los sistemas de deposición avanzados.
Productos relacionados: Cátodos para sputtering de aleación de alta entropía (HEA) de cobalto níquel vanadio, Cátodos para sputtering de níquel cobalto, Cátodos para sputtering de cobalto níquel (Co/Ni)

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Cobalt Tantalum Alloy Sputtering Target, CoTa Target

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ST13646 Cátodos para sputtering de aleación de cobalto y tántalo, cátodos CoTa

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Material

CoTa

Composición

Personalizado

Formulario

Objetivo

TS1350 Carburo de tungsteno esférico/Polvo de cobalto (WC/Co Polvo)

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Composición

W, C, Co

Pureza

99.9%

Apariencia

Polvo gris oscuro

Tamaño de las partículas

20~120nm, 1-60μm, o personalizado

M.O.Q

10 kg

TS1352 Carburo de wolframio/cobalto/cromo en polvo (WC/Co/Cr)

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Dimensiones

0,85mm-0,005mm, o según pedido

Material

Aleación WC/Co/Cr

Apariencia

Polvo gris oscuro

TS1386 Polvo de aleación a base de cobalto (Co-B)

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Material

Polvo de aleación de cobalto

Apariencia

Polvo gris oscuro

Tamaño de las partículas

100 mallas,270 mallas,300 mallas,500 mallas

FAQ

¿Cómo afecta la composición cobalto-tántalo a la uniformidad de la película durante el sputtering?

La composición controlada de la aleación ayuda a mantener una distribución homogénea de cobalto y tántalo, lo que favorece un comportamiento consistente del plasma y la formación de la película. Esta uniformidad minimiza los defectos que se suelen encontrar durante la deposición de la película, lo que mejora la repetibilidad del proceso.

¿Qué factores de compatibilidad del equipo de sputtering deben tenerse en cuenta para el blanco CoTa?

Las dimensiones del cátodo, el acabado de la superficie y la integridad de la unión son fundamentales para la integración con los sistemas de sputtering estándar. Garantizar la compatibilidad implica verificar que el cátodo cumple los requisitos específicos de montaje y refrigeración del equipo de deposición.

¿Cómo se controlan las impurezas en la producción de la diana CoTa?

El proceso de fabricación incluye la selección de materias primas de gran pureza y rigurosas medidas de control de calidad, como el análisis espectroquímico. Este enfoque minimiza las impurezas, lo que garantiza la consistencia del rendimiento del cátodo durante las operaciones de sputtering.