AL10259 Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) 10x10x0,1 mm

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 10x10x0,1 mm Descripción

Este producto es una oblea de Al2O3 con una orientación precisa de plano C (0001) y unas dimensiones de 10x10 mm con un grosor de 0,1 mm. La alineación cristalográfica controlada garantiza una densidad mínima de defectos superficiales y una planitud uniforme, lo que resulta esencial para el procesamiento de semiconductores y las aplicaciones analíticas. Su composición y regularidad estructural ofrecen una plataforma estable para diversos procesos de deposición de películas finas y fabricación microelectrónica.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) 10x10x0,1 mm Aplicaciones

1.
Electrónica y procesamiento de semiconductores
- Utilizado como sustrato en el crecimiento de películas epitaxiales para dispositivos semiconductores con el fin de lograr una deposición uniforme de capas aprovechando su superficie lisa de plano C.
- Aplicado como plataforma aislante en circuitos microelectrónicos para minimizar la interferencia dieléctrica utilizando su alta pureza química y cristalinidad consistente.

2.
Sistemas ópticos y sensores industriales
- Sirve como base de pruebas para sensores ópticos con el fin de validar las propiedades de transmisión de la luz aprovechando su excelente planitud superficial.
- Se utiliza con frecuencia como patrón de calibración en instrumentos ópticos de precisión para lograr mediciones exactas beneficiándose de su espesor y composición controlados.

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 10x10x0,1 mm Embalaje

La oblea se embala individualmente en una caja antiestática y se asegura dentro de una caja forrada de espuma para mitigar los daños mecánicos durante el transporte. Cada unidad se sella en una bolsa resistente a la humedad para evitar la contaminación y la oxidación. El embalaje está diseñado para mantener un entorno controlado, preservando las tolerancias dimensionales y la calidad superficial de la oblea hasta que esté lista para su aplicación. Si lo desea, podemos personalizar el etiquetado y compartimentar el embalaje.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo se verifica la orientación cristalográfica (0001)?
R1: La orientación se confirma mediante difracción de rayos X de alta resolución y difracción de electrones retrodispersados. Estas técnicas miden con precisión la alineación y garantizan que la oblea cumple las especificaciones de planitud y densidad de defectos requeridas.

P2: ¿Qué procedimientos de limpieza y manipulación se recomiendan antes del procesamiento?
A2: Es aconsejable enjuagar la oblea en disolventes de gran pureza, seguidos de agua desionizada, y secarla con nitrógeno filtrado. La manipulación con guantes y herramientas de sala limpia es esencial para evitar la contaminación por partículas y preservar la integridad de la superficie.

P3: ¿Cómo se mantiene la consistencia dimensional durante la producción?
A3: La consistencia dimensional se controla mediante inspección óptica en línea y mediciones micrométricas. Este proceso garantiza que cada oblea se ajuste a las tolerancias de tamaño de 10x10 mm y de grosor de 0,1 mm exigidas para las aplicaciones de procesamiento de semiconductores.

Información adicional

Las obleas de zafiro, compuestas de óxido de aluminio, se utilizan ampliamente en aplicaciones microelectrónicas y optoelectrónicas debido a su inercia química y estabilidad térmica. Las propiedades intrínsecas del Al2O3, unidas a una orientación del plano C controlada con precisión, proporcionan una plataforma fiable para los procesos de investigación y fabricación industrial.

La comprensión del comportamiento físico y químico de los sustratos de zafiro ayuda a los científicos especializados en materiales a optimizar el rendimiento de los dispositivos. Métodos analíticos como la difracción de rayos X y la microscopía electrónica ofrecen información sobre la microestructura, lo que permite predecir con exactitud el rendimiento en entornos de alta precisión.