Horno tubular de deposición química en fase vapor (MPCVD) asistido por microondas de 2" y 1200C GSL-1200X-50-MWPE Descripción
El horno tubular de deposición química en fase vapor asistida por microondas (MPCVD)GSL-1200X-50-MWPE es un horno tubular de deposición química en fase vapor asistida por microondas (MPCVD) que combina un generador de microondas de 2,45 GHz con módulos de calentamiento y un tubo de cuarzo de 2 pulgadas de diámetro exterior. Esta configuración proporciona un conjunto embridado y sellado al vacío que garantiza una generación de plasma estable de 800°C a 1200°C bajo un vacío de aproximadamente 4,5 torr. El horno dispone de una cámara de microondas de 1400 W y 2,45 GHz.
Diseñada pensando en la seguridad, incluye blindaje de acero inoxidable y aluminio para proteger contra la radiación de microondas. La capacidad de calentamiento rápido de hasta 20 °C por minuto y una temperatura máxima de trabajo de 1.200 °C en el módulo de calentamiento dentro de la cámara de microondas garantizan un procesamiento eficaz. También ofrece un control preciso de la temperatura, con un controlador programable de 30 segmentos que mantiene la precisión dentro de ±1℃.
Horno tubular de CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) de 2" y 1200C GSL-1200X-50-MWPE Especificaciones
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Características
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- Cámara de microondas de 1400W a 2,45 GHz
- Escudo de acero inoxidable y aluminio para proteger de la radiación de microondas
- Módulo de calentamiento dentro de la cámara de microondas
- Control de temperatura de precisión con 30 segmentos programables dentro de +/- 1ºC
- Material de aislamiento térmico moldeado al vacío para un máximo ahorro de energía.
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Microondas
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- Frecuencia: 2,45 GHz ±25 MHz
- Potencia de salida: 1400W
- Fuga de microondas: ≤ 3 mW/cm² a 1 metro de distancia.
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Módulo de calentamiento y tubo de procesamiento
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- En el interior del módulo de alúmina fibrosa se instala una moneda calefactora de alambre de Ni-Cr-Al con un diámetro interior de 80 mm.
- La bobina de calentamiento se coloca dentro de la cámara de microondas
- Tubo de cuarzo de 2" (OD 50 x ID 44x L 600 mm) se inserta dentro del módulo de calentamiento y la cámara de microondas para producir plasma.
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Potencia
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2000W, 208-240VAC, Monofásica, 50/60Hz
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Bridas y vacío
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- Se incluye un par de bridas de vacío para sellar el tubo de cuarzo
- El puerto de vacío KF25 y la entrada y salida de gas de 1/4 con válvulas de aguja están incorporados en la brida
- Se incluye un vacuómetro digital para el control del vacío
- Máx. Nivel de vacío: 10-2 torr por bomba seca y 10-5 torr por turbobomba.
- La bomba no está incluida.
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Temp. de trabajo
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- Máx. Temp.: 1200℃ (<30min); ≤1100℃ continua.
- Min. Temp: 800℃
- Velocidad de calentamiento: 1 ~20°C/min
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Controlador de temperatura
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- 30 segmentos programables para velocidad de calentamiento, temperatura y tiempo de permanencia y velocidad de enfriamiento
- Control de temperatura SCR
- Protección contra sobretemperatura y rotura del par térmico
- Precisión de control +/-1,0℃
- Par térmico tipo K insertado a través de la brida
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Peso neto
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30 kg
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Dimensiones
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Microondas: 560(L) x 410(An) x 340(Al) mm
Profundidad total con tubo y brida 780 mm
Controlador: 600(L) x 520(An) x 265(Al) mm
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Garantía
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- Garantía limitada de un año con asistencia de por vida.
- Los consumibles, incluidos crisoles, elementos calefactores y materiales de aislamiento térmico no están cubiertos por la garantía.
- ATENCIÓN: Los daños causados por el uso de gases corrosivos y ácidos no están cubiertos por la garantía limitada de un año de SAM.
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Certificado
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- Certificado CE
- Certificación NRTL o CSA disponible con coste adicional.
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Horno tubular de 2" para CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) a 1200C GSL-1200X-50-MWPE Aplicaciones
- Síntesis y Procesamiento de Materiales: Estos hornos son excelentes para sintetizar materiales complejos como cerámicas, vidrios y materiales compuestos.
- Sinterización de cerámicas y metales: Los hornos de microondas son ideales para la sinterización de polvos cerámicos y metálicos gracias a su rápida capacidad de calentamiento a altas temperaturas.
- Investigación y desarrollo: Los hornos tubulares de microondas se utilizan ampliamente en laboratorios de investigación académicos e industriales para el desarrollo de nuevos materiales y el estudio de procesos de tratamiento térmico en condiciones controladas.
Horno tubular 1200C de CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) de 2" GSL-1200X-50-MWPE Embalaje
Nuestro Horno tubular 1200C de CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) de 2 " GSL-1200X-50-MWPE se manipula cuidadosamente durante el almacenamiento y el transporte para preservar la calidad de nuestro producto en su estado original.
