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Descatalogado IF5731 (Descatalogado) 1200C Horno tubular de CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) de 2" GSL-1200X-50-MWPE

Catálogo No. IF5731
Temperatura de funcionamiento ≤1100℃ continua

Descatalogado

Elhorno de tubo de 2" 1200C para CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD ) es un horno de tubo para deposición química en fase vapor asistida por microondas (MPCVD) que combina un generador de microondas de 2,45 GHz con módulos de calentamiento y un tubo de cuarzo de 2 pulgadas de diámetro exterior. Stanford Advanced Materials (SAM) tiene una gran experiencia en la fabricación y el suministro de hornos de tubo calentados por microondas de alta calidad.

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(Discontinued) 1200C Microwave Plasma Assisted CVD (MPCVD) 2” Tube Furnace GSL-1200X-50-MWPE
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