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Conducción superficial y resistividad eléctrica reducida en el semimetal NbP ultrafino no cristalino

Título Conducción superficial y resistividad eléctrica reducida en el semimetal NbP ultrafino no cristalino
Autores Asir Intisar Khan, Akash Ramdas, Emily Lindgren, Hyun-Mi Kim, Byoungjun Won, Xiangjin Wu, Krishna Saraswat, Ching-Tzu Chen, Yuri Suzuki, Felipe H. da Jornada, Il-Kwon Oh, Eric Pop
Revista Ciencia
Fecha 01/03/2025
DOI 10.1126/science.adq7096
Introducción La resistividad eléctrica de los metales convencionales, como el cobre, suele aumentar en las películas finas debido a la dispersión de electrones en la superficie, lo que limita su rendimiento en la electrónica a nanoescala. Este estudio revela una inesperada disminución de la resistividad con la reducción del espesor de la película en películas semimetálicas de fosfuro de niobio (NbP) depositadas a 400°C. Las películas de espesor inferior a 5 nanómetros presentan una resistividad a temperatura ambiente significativamente inferior a la del NbP a granel y a la de los metales convencionales de espesor similar. Estas películas no cristalinas presentan un orden nanocristalino local dentro de una matriz amorfa. Nuestro análisis indica que la conducción por canales superficiales, la alta densidad de portadores superficiales y la buena movilidad contribuyen a la menor resistividad a medida que disminuye el espesor. Estos hallazgos sugieren un potencial para los hilos ultrafinos de baja resistividad en nanoelectrónica más allá de las limitaciones metálicas convencionales.
Cita Asir Intisar Khan, Akash Ramdas y Emily Lindgren et al. Conducción superficial y resistividad eléctrica reducida en el semimetal NbP ultrafino no cristalino. Science. 2025. Vol. 387(6729):62-67. DOI: 10.1126/science.adq7096
Elemento Niobio (Nb)
Materiales Semiconductores
Industria Electrónica
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