ST0266 Cátodos para sputtering de níquel siliciuro (NiSi2)

Descripción del cátodo para sputtering de níquel siliciuro (NiSi2)

El cátodo para sputtering de siliciuro de níquel (NiSi2) está diseñado para técnicas de deposición avanzadas en aplicaciones de microelectrónica y ciencia de materiales. Fabricado con una pureza de ≥99%, este cátodo está diseñado con precisión para garantizar un rendimiento fiable en los procesos de sputtering. Su elevado punto de fusión de 990℃ junto con una densidad de 4,85 g/cm³ lo convierten en una opción óptima para producir películas finas uniformes y revestimientos avanzados. Desarrollado por Stanford Advanced Materials, este producto está disponible en formas personalizables que incluyen discos estándar o configuraciones a medida para satisfacer los requisitos de aplicaciones específicas.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de níquel siliciuro (NiSi2)

- Fabricación de dispositivos semiconductores: Esencial para crear capas de siliciuro de alta calidad en circuitos integrados.
- Ingeniería de superficies: Ideal para depositar recubrimientos conductores y protectores.
- Microelectrónica: Admite la formación de características finas y contactos de alto rendimiento.
- Investigación y desarrollo: Proporciona un material fiable para estudios innovadores de sputtering y deposición.

Empaquetadura de cátodos de níquel siliciuro (NiSi2) para sputtering

Nuestros cátodos para sputtering de níquel siliciuro (NiSi2) se embalan con sumo cuidado para mantener su integridad durante el almacenamiento y el transporte. Disponemos de opciones de embalaje personalizadas, con productos normalmente sellados bajo condiciones controladas para garantizar la pureza y el rendimiento del producto.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuál es la aplicación principal de un cátodo para sputtering de níquel-siliciuro?
R: Se utiliza principalmente en la fabricación de dispositivos semiconductores y en aplicaciones de recubrimiento de superficies, garantizando la deposición de películas de alta calidad.

P: ¿En qué beneficia a este cátodo para sputtering un nivel de pureza ≥99%?
R: El alto grado de pureza minimiza las impurezas, lo que se traduce en un rendimiento constante del sputtering y en películas finas de calidad superior.

P: ¿Se puede personalizar el cátodo para sputtering de níquel siliciuro?
R: Sí, está disponible en tamaños y formas personalizados, incluidos discos estándar o configuraciones a medida.

P: ¿Qué industrias utilizan habitualmente este cátodo para sputtering?
R: Se utiliza ampliamente en las industrias de semiconductores, microelectrónica e investigación de materiales avanzados.

P: ¿Cómo debe almacenarse el producto para mantener su calidad?
R: Debe almacenarse en condiciones controladas, preferiblemente en envases sellados al vacío, para protegerlo de la contaminación y mantener su rendimiento.