Descatalogado (Descatalogado) ST0232 Cátodos para sputtering de carburo de circonio (ZrC)

Descripción del cátodo para sputtering de carburo de circonio (ZrC)

El cátodo para sputtering de carburo de circonio (ZrC) está diseñado para aplicaciones de sputtering exigentes. Fabricado con una pureza de ≥99%, este cátodo ofrece un rendimiento excepcional en condiciones extremas gracias a su alto punto de fusión (3530℃) y a su robustez física. Está específicamente diseñado para sputtering RF, garantizando la deposición uniforme de películas finas y una adherencia superior sobre diversos sustratos.

Aplicaciones del cátodo para sputtering de carburo de circonio (ZrC)

- Deposición de película fina: Ideal para recubrimientos de precisión en la fabricación de semiconductores y sensores.
- Aeroespacial y energía: Proporciona un rendimiento fiable en entornos de alta temperatura para componentes aeroespaciales avanzados y sistemas de energía.
- Recubrimientos industriales: Excelente para crear capas protectoras y resistentes al desgaste en herramientas y maquinaria.
- Investigación y desarrollo: Adecuado para procesos experimentales de sputtering en proyectos de ciencia de materiales y nanotecnología.

Empaquetadura de cátodos para sputtering de carburo de circonio (ZrC)

Nuestros cátodos para sputtering de carburo de circonio (ZrC) se embalan de forma segura para mantener su estado prístino durante el almacenamiento y el envío. Existen opciones de embalaje personalizadas para adaptarse a diversos requisitos de manipulación y aplicación.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuáles son las aplicaciones típicas del cátodo para sputtering de carburo de circonio (ZrC)?
R: Se utiliza principalmente en procesos de sputtering de RF para la deposición de películas finas sobre sustratos en las industrias de semiconductores, aeroespacial y energética.

P: ¿Qué importancia tiene el alto punto de fusión del ZrC?
R: El elevado punto de fusión (3530℃) garantiza una excelente estabilidad térmica y fiabilidad en condiciones de procesamiento extremas.

P: ¿Por qué se favorece el sputtering RF para este blanco?
R: El sputtering RF facilita la deposición uniforme de la película, especialmente en sustratos no conductores, mejorando la calidad general del recubrimiento.

P: ¿En qué medida se pueden personalizar los tamaños de cátodos disponibles?
R: Los cátodos están disponibles en tamaños personalizados para satisfacer las necesidades específicas de equipos y aplicaciones, incluidos varios formatos de disco.

P: ¿Qué papel desempeñan los materiales de unión en este cátodo para sputtering?
R: El uso de uniones de indio y elastómero garantiza una adhesión y estabilidad óptimas durante el proceso de sputtering, lo que contribuye a un rendimiento constante.