Descatalogado (Descatalogado) ST0147 Cátodos para sputtering de óxido de europio (Eu2O₃)

Cátodos para sputtering de óxido de europio (Eu2O₃) Descripción

El cátodo para sputtering de óxido de europio (Eu2O₃) está diseñado para la deposición eficiente de películas en procesos de sputtering de RF y CC. Fabricado con alta precisión y mantenido a un nivel de pureza de ≥99%, este cátodo promete un rendimiento constante ideal para la producción de películas finas avanzadas. Su forma de disco personalizada permite una gran versatilidad de aplicación, lo que lo convierte en la opción preferida en electrónica, tecnología de visualización y fabricación de dispositivos optoelectrónicos.

Aplicaciones del cátodo para sputtering de óxido de europio (Eu2O₃)

- Deposición de películas finas: Ideal para crear películas uniformes y de alta calidad en aplicaciones de semiconductores y pantallas.
- Microelectrónica: Utilizado en la deposición de capas de óxido esenciales para componentes microelectrónicos.
- Optoelectrónica: Mejora el rendimiento de dispositivos como LED, sensores y células fotovoltaicas.
- Investigación y desarrollo: Perfecto para estudios avanzados de materiales y procesos experimentales de sputtering.

Embalaje de cátodos para sputtering de óxido de europio (Eu2O₃)

Nuestros cátodos para sputtering de óxido de europio (Eu2O₃) se embalan cuidadosamente para garantizar que mantienen su estado prístino durante el almacenamiento y el transporte. Los productos se colocan de forma segura en soluciones de embalaje protectoras y personalizadas que los protegen contra daños físicos y contaminación.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué aplicaciones son las más adecuadas para el cátodo para sputtering de óxido de europio?
R: El cátodo es ideal para la deposición de películas finas en electrónica, paneles de visualización, microelectrónica y dispositivos optoelectrónicos, así como en entornos de investigación avanzada.

P: ¿Qué métodos de sputtering pueden utilizarse con este cátodo?
R: Este cátodo es compatible con los procesos de sputtering RF y DC, lo que proporciona versatilidad para diversas técnicas de fabricación.

P: ¿Cómo beneficia a mi aplicación la alta pureza (≥99%) del cátodo?
R: La alta pureza garantiza unas impurezas mínimas en las películas depositadas, lo que mejora el rendimiento eléctrico, óptico y mecánico del producto final.

P: ¿Existen tamaños personalizados para este cátodo para sputtering?
R: Sí, los tamaños disponibles pueden personalizarse para satisfacer requisitos de aplicación específicos, garantizando una integración óptima en su proceso de fabricación.

P: ¿Qué precauciones deben tomarse durante la manipulación y el embalaje del cátodo?
R: La diana se embala en materiales protectores para evitar la contaminación y los daños físicos. Se recomienda manipularlo con cuidado utilizando las herramientas y técnicas adecuadas durante su instalación en el equipo de sputtering.