ST0986 Cátodos para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc, SiO2-ZnS

Cátodos para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc Descripción

El cátodo para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc, SiO2-ZnS, se produce utilizando técnicas de fabricación de precisión para garantizar una pureza (≥99%) y consistencia excepcionales. Diseñado para aplicaciones avanzadas de sputtering, ofrece un rendimiento fiable en el depósito de películas finas y recubrimientos en industrias de alta tecnología. Sus formas personalizables, que incluyen configuraciones de disco estándar u opciones a medida, proporcionan versatilidad para una amplia gama de aplicaciones, desde la microelectrónica hasta la investigación y el desarrollo.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc

- Fabricación de semiconductores: Ideal para depositar películas finas de alta calidad sobre obleas de silicio.
- Optoelectrónica: Utilizado en la producción de recubrimientos ópticos para LED, pantallas y otros dispositivos.
- Ingeniería de superficies: Proporciona excelentes soluciones de revestimiento para la resistencia al desgaste y la mejora del rendimiento de componentes industriales.
- Investigación y desarrollo: Sirve como material crítico para procesos experimentales de sputtering en laboratorios de ciencia de materiales.

Empaquetadura de cátodos para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc

Nuestros cátodos para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc se embalan con sumo cuidado para mantener su estado prístino durante el almacenamiento y el transporte. Los productos pueden envasarse al vacío en embalajes especializados, con opciones disponibles en cantidades estándar o como pedidos a granel en función de los requisitos del cliente.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuáles son las principales aplicaciones del cátodo para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc?
R: Se utiliza principalmente para sputtering en la fabricación de semiconductores, fabricación de dispositivos optoelectrónicos, ingeniería de superficies e investigación y desarrollo.

P: ¿Se puede personalizar la forma del cátodo para sputtering?
R: Sí, el producto está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida para satisfacer requisitos de aplicación específicos.

P: ¿Cuál es el grado de pureza de este producto?
R: El cátodo para sputtering de dióxido de silicio y sulfuro de zinc tiene un nivel de pureza ≥99%.

P: ¿Se facilita la densidad o el punto de fusión de este material?
R: No, los parámetros de densidad y punto de fusión no son aplicables (N/A) para este producto.

P: ¿Cómo puedo solicitar información sobre pedidos personalizados o envases a granel?
R: Póngase en contacto con nuestro equipo de ventas con sus especificaciones y requisitos de embalaje, y estaremos encantados de ayudarle con soluciones a medida.