Blanco para sputtering de titanato cálcico y plomo ST0450

Descripción del cátodo de titanato cálcico de plomo para sputtering

El cátodo para sputtering de titanato cálcico de plomo está específicamente diseñado para aplicaciones de sputtering de alta precisión. Fabricado con una pureza de ≥99% y disponible en discos o formas a medida, este cátodo es ideal para la fabricación de películas finas utilizadas en condensadores, sensores y dispositivos piezoeléctricos. Su diseño robusto y la integridad del material garantizan una deposición consistente y fiabilidad en entornos industriales exigentes.

Aplicaciones de los cátodos de titanato cálcico de plomo para sputtering

- Deposición de películas finas: Perfecto para aplicar recubrimientos uniformes en dispositivos electrónicos y microelectrónicos.
- Fabricación de condensadores: Utilizado en la producción de condensadores de alto rendimiento.
- Fabricación de sensores: Empleada en el desarrollo de sensores sensibles y fiables.
- Sistemas microelectromecánicos (MEMS): Adecuado para aplicaciones MEMS avanzadas que requieren una deposición precisa del material.

Empaquetadura de cátodos para sputtering de titanato cálcico de plomo

Nuestros cátodos para sputtering de titanato cálcico de plomo se manipulan y embalan cuidadosamente para mantener su alta pureza y rendimiento. Las opciones de embalaje se pueden personalizar para satisfacer los requisitos específicos del cliente, garantizando que el producto llegue en condiciones óptimas para su uso inmediato.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuál es la composición química del cátodo?
R: El cátodo está compuesto de Pb0,7Ca0,3TiO3.

P: ¿Qué formas hay disponibles para este cátodo para sputtering?
R: Está disponible en forma de disco o puede fabricarse a medida en función de requisitos específicos.

P: ¿Cuál es el grado de pureza de este producto?
R: El producto se fabrica con una pureza de ≥99%.

P: ¿Se pueden personalizar los tamaños disponibles?
R: Sí, los tamaños se pueden personalizar para satisfacer diversas necesidades de aplicación.

P: ¿En qué aplicaciones puede utilizarse este cátodo para sputtering?
R: Es ideal para la deposición de películas finas, la fabricación de condensadores y sensores, así como para la fabricación de MEMS avanzados.