ST0291 Blanco para sputtering de boruro de cerio (CeB6)

Descripción del cátodo para sputtering de boruro de cerio (CeB6)

El cátodo para sputtering de boruro de cerio (CeB6) está diseñado para proporcionar un rendimiento preciso y fiable en los procesos de deposición de películas finas. Fabricado mediante técnicas de vanguardia, este cátodo presenta un punto de fusión de 2550℃ y una densidad de 4,77 g/cm³, lo que garantiza su estabilidad y durabilidad en condiciones de sputtering de alta potencia. Con un nivel de pureza de ≥99%, es ideal para aplicaciones avanzadas en la fabricación de semiconductores, revestimientos ópticos y dispositivos microelectrónicos.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de boruro de cerio (CeB6)

- Fabricación de semiconductores: Esencial para la deposición de películas finas de alta calidad en dispositivos microelectrónicos.
- Recubrimientos ópticos: Proporciona un sustrato estable para la producción de películas ópticas avanzadas.
- Microelectrónica: Utilizado en procesos de deposición que exigen precisión y gran pureza.
- Investigación y desarrollo: Ideal para estudios experimentales en ciencia de materiales y técnicas avanzadas de deposición.

Empaquetadura de cátodos para sputtering de boruro de cerio (CeB6)

Nuestros cátodos de boruro de cerio para sputtering se embalan cuidadosamente para mantener su estado prístino durante el almacenamiento y el transporte. Los productos se sellan al vacío y se ofrecen en tamaños personalizados para satisfacer los requisitos específicos del cliente.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuáles son las principales aplicaciones de los cátodos de boruro de cerio para sputtering?
R: Se utiliza principalmente en la deposición de películas finas para la fabricación de semiconductores, revestimientos ópticos y microelectrónica, así como en I+D de materiales avanzados.

P: ¿Qué métodos de sputtering son compatibles con este cátodo?
R: El cátodo es compatible con los sistemas de sputtering RF, RF-R y DC, lo que garantiza su versatilidad en diferentes configuraciones de deposición.

P: ¿Cómo se mantiene la alta pureza (≥99%) del cátodo?
R: El cátodo se somete a estrictos procedimientos de control de calidad y purificación durante la producción para garantizar su alta pureza y su rendimiento constante.

P: ¿Se puede personalizar la forma y el tamaño de la diana?
R: Sí, el cátodo para sputtering de boruro de cerio está disponible en forma de disco estándar y puede fabricarse a medida para adaptarse a requisitos operativos y de diseño específicos.

P: ¿Qué ventajas ofrece el alto punto de fusión de 2550℃?
R: El alto punto de fusión garantiza que el cátodo permanezca estable y funcione de forma fiable en condiciones de alta temperatura durante el proceso de sputtering.