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Stanford Advanced Materials
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ST11212 Blanco rotativo de estaño, blanco Sn

Catálogo No. ST11212
Composición Sn
Pureza ≥99,99%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Tubular
Dimensiones Personalizado

Tin Rotary Target, Sn Target es un material para sputtering producido a partir de estaño de gran pureza, optimizado para procesos de deposición controlada de películas. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea la refundición por arco en vacío y la verificación microscópica de la superficie para conseguir propiedades microestructurales consistentes y minimizar las inclusiones. SAM utiliza evaluaciones metalográficas cuantitativas para garantizar el cumplimiento de estrictas tolerancias dimensionales y de composición. El exhaustivo proceso de control de calidad minimiza las impurezas y favorece unos resultados de deposición predecibles.

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FAQ

¿Qué factores influyen en la uniformidad de deposición durante el sputtering con cátodos rotativos de estaño?

La uniformidad de la deposición depende de la integridad de la superficie del sustrato, de una composición uniforme y de la velocidad de rotación. El control preciso de estos parámetros minimiza la formación de partículas y garantiza un espesor uniforme de la película en todos los sustratos.

¿Cómo afectan las tolerancias de fabricación de los cátodos rotativos de estaño a la calidad del revestimiento?

Las estrictas tolerancias en la composición y las dimensiones garantizan un comportamiento uniforme del sputtering. Los métodos mejorados de verificación de la calidad, como el análisis microestructural, favorecen la uniformidad del grosor de la película y reducen los defectos durante el proceso de recubrimiento.

¿Qué precauciones deben tomarse para manipular los blancos rotativos de estaño y evitar la contaminación?

Es esencial utilizar guantes antiestáticos y almacenar los cátodos en un entorno limpio y a temperatura controlada. Unas medidas adecuadas de manipulación y embalaje evitan la oxidación y los contaminantes superficiales, manteniendo así el rendimiento del sputtering.

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