ST11179 Blanco planar de cobalto, hierro, tantalio y boro, blanco CoFeTaB

Cobalto Hierro Tantalio Boro Blanco Planar, CoFeTaB Blanco Descripción

El cátodo planar de cobalto, hierro, tántalo y boro, CoFeTaB utiliza una matriz homogénea de aleación Co-Fe-Ta-B formulada para aplicaciones de sputtering. El diseño planar mejora la erosión uniforme del cátodo, asegurando una deposición consistente de la película en sistemas de procesado de semiconductores. Las dimensiones personalizables permiten la compatibilidad con una amplia gama de equipos, mientras que la composición controlada de la aleación minimiza el envenenamiento del blanco y mantiene tasas de deposición constantes, esenciales para la fabricación de películas finas de precisión.

Cobalto Hierro Tántalo Boro Blanco Planar, CoFeTaB Características del blanco

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Cobalto Hierro Tantalio Boro Blanco Planar, CoFeTaB Blanco Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como fuente de pulverización catódica en la deposición de película delgada de semiconductores para lograr un recubrimiento uniforme aprovechando el diseño planar del blanco.

2.Industrial
- Aplicado como blanco de recubrimiento en la producción de pantallas planas para obtener propiedades de película consistentes a través de la composición controlada de la aleación.

3.Automoción
- Empleado como cátodo para sputtering en la fabricación de sensores para mejorar la uniformidad de la película aprovechando las dimensiones personalizables.

Cobalto Hierro Tántalo Boro Blanco Planar, CoFeTaB Blanco Embalaje

El cátodo de CoFeTaB se embala en un contenedor acolchado antiestático para minimizar los daños mecánicos y la contaminación. Cada blanco está sellado para protegerlo contra la humedad y la exposición a partículas durante el transporte y el almacenamiento. El embalaje garantiza el mantenimiento de la integridad del material en condiciones de temperatura controlada. El sellado al vacío opcional, el etiquetado especializado y la compartimentación personalizada están disponibles para satisfacer los requisitos específicos de la industria.

Información adicional

Los cátodos para sputtering son componentes críticos en la deposición de películas finas, donde las composiciones precisas de las aleaciones influyen directamente en la uniformidad de la película y en el rendimiento del dispositivo. La utilización de aleaciones de cobalto en la ciencia de materiales ha sido decisiva en el avance de los procesos para las tecnologías de semiconductores y pantallas.

La comprensión de la interacción entre el control de la composición y la geometría del blanco facilita la mejora de la repetibilidad del proceso y la eficacia de la deposición. Los continuos avances en el control de calidad y las técnicas de producción perfeccionan aún más las características de rendimiento de estos cátodos, fomentando mejores resultados en entornos de fabricación de alta precisión.