Descripción:
El silicio es un metaloide y posee las propiedades típicas de los metales y los no metales. Es extremadamente inerte e insoluble en agua y ácidos. Sin embargo, puede disolverse en silicatos mediante lejías alcalinas calientes. El silicio puro forma cristales grises oscuros, metálicos y brillantes. El silicio posee también una excelente conductividad térmica, que -en el silicio puro- va acompañada de una conductividad eléctrica extremadamente baja. Cuando se alea con aluminio, aumenta la resistencia y reduce el peso.
Los materiales de evaporación de alta pureza desempeñan un papel fundamental en los procesos de deposición para garantizar la alta calidad de la película depositada. Stanford Advanced Materials (SAM) está especializada en la producción de materiales de evaporación de silicio con una pureza de hasta el 99,999%, utilizando procesos de aseguramiento de la calidad para garantizar la fiabilidad del producto.
Especificación
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Material
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Silicio
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Peso atómico
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28.0855
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Color/Apariencia
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Gris oscuro con un matiz azulado, semimetálico
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Conductividad térmica
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150 W/m.K
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Punto de fusión (°C)
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1,410
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Resistividad aparente
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0,005-0,020 OHM-CM
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Coeficiente de expansión térmica
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2,6 x 10-6/K
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Densidad teórica (g/cc)
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2.32
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Relación Z
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0.712
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Temp. (°C) para vapor dado Press. (Torr)
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10^-8: 992 10^-6: 1,147 10^-4: 1,337
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Aplicaciones
1. Dispositivos semiconductores: Los materiales de evaporación de silicio tipo P se utilizan ampliamente en la fabricación de dispositivos semiconductores. Permiten depositar capas de silicio con una concentración específica de dopante, lo que confiere al material las propiedades eléctricas deseadas. Estas capas de silicio dopado son cruciales en transistores, diodos y otros componentes electrónicos, donde controlan el flujo de corriente y permiten la funcionalidad del dispositivo.
2. Fabricación de células solares: Los materiales de evaporación de silicio tipo P también se emplean en la fabricación de células solares. Las células solares convierten la luz solar en electricidad, y el uso de silicio tipo P permite crear estructuras fotovoltaicas eficientes. La deposición de capas de silicio tipo P sobre sustratos constituye la base de las células solares que generan electricidad a partir de la luz solar.
3. Circuitos integrados (CI): En la producción de circuitos integrados, los materiales de evaporación de silicio tipo P desempeñan un papel importante. Estos materiales permiten depositar capas de silicio con concentraciones precisas de dopantes, fundamentales para el correcto funcionamiento de los transistores y otros componentes de los circuitos integrados. Las películas de silicio resultantes contribuyen al rendimiento general y a la fiabilidad de los circuitos.
4. Electrónica de capa fina: La electrónica de capa fina se refiere a los dispositivos y sistemas electrónicos construidos con capas finas de materiales. Los materiales de evaporación de silicio tipo P se utilizan para depositar películas finas de silicio sobre diversos sustratos, lo que permite crear componentes electrónicos miniaturizados con propiedades únicas. Estas películas finas pueden utilizarse en sensores, pantallas y otras aplicaciones electrónicas en las que se busca compacidad y flexibilidad.
5. Investigación y desarrollo: Los materiales de evaporación de silicio tipo P también se utilizan en actividades de investigación y desarrollo, especialmente en el campo de la ciencia de los materiales y la electrónica. Científicos e ingenieros utilizan estos materiales para explorar nuevas estructuras de dispositivos, mejorar el rendimiento y desarrollar aplicaciones innovadoras.
Envasado:
Nuestros materiales de evaporación se manipulan cuidadosamente para evitar daños durante el almacenamiento y el transporte y para preservar la calidad de nuestros productos en su estado original.
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