VD0805 Materiales de evaporación de siliciuro de níquel (NiSi2)

Descripción de los materiales de evaporación de níquel siliciuro

El material de evaporación de níquel siliciuro (NiSi2) es un material de evaporación cerámico siliciuro. Los materiales de evaporación de NiSi2 de alta pureza desempeñan un papel fundamental en los procesos de deposición para garantizar una película depositada de alta calidad.

El material de evaporaciónsiliciuro de níquel, suministrado por Stanford Advanced Materials, es un material de evaporación cerámico siliciuro con la fórmula química NiSi2. Los materiales de evaporación de NiSi2 de alta pureza desempeñan un papel importante en los procesos de deposición, garantizando la creación de películas depositadas de alta calidad. Stanford Advanced Materials (SAM) destaca en la producción de materiales de evaporación con niveles de pureza que alcanzan hasta el 99,9995%, utilizando rigurosos procesos de garantía de calidad para asegurar una fiabilidad impecable del producto.

Especificación de los materiales de evaporación de siliciuro de níquel

Aplicación de los materiales de evaporación de siliciuro de níquel

Los materiales de evaporación de siliciuro de níquel tienen amplias aplicaciones en procesos de deposición, como la deposición de semiconductores, la deposición química en fase vapor (CVD) y la deposición física en fase vapor (PVD). Se utilizan principalmente en óptica, ofreciendo protección contra el desgaste, revestimientos decorativos y contribuyendo a las tecnologías de visualización.

Embalaje de materiales de evaporación de siliciuro de níquel

Para garantizar una identificación y un control de calidad racionalizados, los materiales de evaporación de siliciuro de níquel se etiquetan meticulosamente y se etiquetan externamente. Ponemos el máximo cuidado para evitar cualquier daño potencial que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.