ST1013 Blanco para sputtering de titanato de estroncio y bario, BaxSr(1-x)TiO3

Descripción del cátodo de titanato de estroncio y bario para sputtering

El cátodo para sputtering de titanato de estroncio y bario, BaxSr(1-x)TiO3 está diseñado para ofrecer un rendimiento excepcional en aplicaciones de sputtering. Fabricado con alta precisión y una pureza de ≥99%, ofrece un comportamiento consistente y fiabilidad durante los procesos de deposición de película fina. Su sólida estabilidad térmica, destacada por un punto de fusión de 1625°C y un rango de densidad óptimo de 5,5-6,0 g/cm³, lo hace ideal para la producción de semiconductores y dispositivos electrónicos avanzados.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de titanato de estroncio y bario

- Deposición de película fina: Proporciona películas de alta calidad en dispositivos semiconductores y sensores.
- Componentes electrónicos: Utilizados en la fabricación de componentes de precisión para RF, condensadores y otros circuitos electrónicos.
- Recubrimientos avanzados: Proporciona revestimientos superficiales fiables para mejorar la durabilidad en entornos difíciles.
- Investigación y desarrollo: Ideal para montajes experimentales y el desarrollo de tecnologías innovadoras de película fina.

Embalaje del cátodo para sputtering de titanato de estroncio y bario

El cátodo para sputtering está disponible en tamaños personalizados para satisfacer los requisitos específicos de cada aplicación. Las soluciones de embalaje se adaptan para garantizar una protección óptima durante el almacenamiento y el transporte.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuál es la composición química exacta del cátodo para sputtering?
R: La composición es BaxSr(1-x)TiO3, que ofrece un alto rendimiento y fiabilidad en aplicaciones de sputtering.

P: ¿Qué formas hay disponibles para este producto?
R: El producto está disponible en forma de disco o puede fabricarse a medida para satisfacer requisitos específicos de la aplicación.

P: ¿Cuál es el grado de pureza del cátodo para sputtering?
R: El cátodo para sputtering tiene una pureza de ≥99%, lo que garantiza un rendimiento excepcional en aplicaciones avanzadas.

P: ¿En qué beneficia al cátodo para sputtering su punto de fusión de 1625 °C?
R: Un punto de fusión de 1625°C garantiza una excelente estabilidad térmica y durabilidad durante el procesamiento a altas temperaturas.

P: ¿Puedo solicitar tamaños personalizados para este cátodo para sputtering?
R: Sí, el producto está disponible en tamaños personalizados para satisfacer perfectamente las necesidades específicas de su aplicación.